[发明专利]积层电路板的制造方法无效

专利信息
申请号: 99125629.8 申请日: 1999-11-26
公开(公告)号: CN1150807C 公开(公告)日: 2004-05-19
发明(设计)人: 王根长;高青云 申请(专利权)人: 王根长;高青云
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518066广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种积层电路板的制造方法,其特点是以对位压焊实现电路的层间连接。提高电路板的可靠性和组装安密度,同时降低电路板制造过程中的环境污染。使电路板更轻、更薄、理小、更可靠,更价廉,适合制做成双面板、多层板或挠性板,适用于手机电话、便携式电脑等高技术产品的组装。
搜索关键词: 电路板 制造 方法
【主权项】:
1、一种积层电路板的制造方法,其特征是:包括以下步骤:a、开孔:在粘接绝缘层上开孔,开孔位置即预定的层间连接位置;内层粘接绝缘层的对位靶孔同时开出;铜箔也预先冲出同样的靶孔;b、叠合排层:在预先做好的定位压焊架上,根据需要,按照预先设定的顺序,将预先已开孔的各层铜箔、绝缘层叠合排层;c、压焊:以靶孔为基准做定位压焊,在焊针和铜箔的接触点位,金属熔化而实现层间悍接;d、按绝缘层的温度特性压合固化:流动的树脂会填充压焊点周围的空间,此时已实现了导电层的定位连接;e、做当前外层的导电图形:以靶孔为基准,制做两面的正像抗蚀图像,然后蚀去铜箔;褪除抗蚀层,即得到与内层连接的导电图像;f、对当前外层的导电图象做黑氧化处理,精确钻出靶孔,重复c-e步骤直到完成预定层数。
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