[发明专利]为减少泄漏面积的间隙分布有效
申请号: | 99125860.6 | 申请日: | 1999-11-30 |
公开(公告)号: | CN1133011C | 公开(公告)日: | 2003-12-31 |
发明(设计)人: | 克沙瓦·B·库马尔;詹姆斯·W·布什 | 申请(专利权)人: | 开利公司 |
主分类号: | F04C18/20 | 分类号: | F04C18/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 赵辛 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 零间隙螺旋转子诸轮廓是通过确定在这些轮廓上的间隔的诸点处的间隙要求和使用一非线性分布改变在诸相邻点之间的间隙分布而修改的。这样导致减小了总的间隙并因此也减少了泄漏。所以,当将这些间隙放入一对转子中时,在一对转子之间、保持在节圆附近的接触带上保持着零间隙。 | ||
搜索关键词: | 减少 泄漏 面积 间隙 分布 | ||
【主权项】:
1.一对共轭啮合的转子(14,16),每个所述转子具有多个突瓣,该突瓣包括螺旋形齿顶(P,U,M)和中间槽(R,O,K),并适于在一螺旋转子机器(10)的一工作空间内围绕平行的轴线转动,每个所述转子具有一齿顶圆(TF,TM)、一节圆(PF,PM)和一齿根圆(R),一个所述转子是一这样形成的阴转子(14),即所述阴转子的每个所述突瓣的主要部分位于所述阴转子的所述节圆内,另一转子(16)是一这样形成的阳转子(16),即所述阳转子的每个所述突瓣的主要部分位于所述阳转子的所述节圆之外,每个转子的诸所述齿顶沿着另一所述转子的诸所述槽引进,以在一对所述转子之间形成一连续的密封,两所述转子通过位于至少靠近每个所述转子的所述节圆之处的一接触带(B-C)彼此驱动啮合,两所述转子以一恒定的节圆速度转动,在该对所述转子之间的一运转间隙(A-A’-B,C-C’-D,E-E’-F,G-G’-H)的特点在于:它是由当两所述转子以一恒定的节圆速度转动时,在该对所述转子上在它们最接近的诸点处在诸共轭啮合点之间的诸间隙来表示,所述运转间隙位于两所述转子上的一对配合区段之间,该两区段从至少靠近于一所述转子的所述节圆的一点延伸到靠近于该所述转子的所述齿顶圆的一点,和从至少靠近于另一所述转子的所述节圆的一点延伸到靠近于该另一所述转子的齿根圆的一点,所述运转间隙当沿着在一径向平面里的诸突瓣表面测量时是变化的,在诸所述配合区段靠近于各自的齿顶圆和齿根圆时所述运转间隙较大,在诸所述啮合区段靠近于各自的诸节圆时所述运转间隙较小,所述的可变性的特点在于:当诸所述啮合区段靠近于各自的齿顶圆和齿根圆时变化较快,而当诸所述啮合区段靠近于各自的诸节圆时变化较小,从而减少了泄漏。
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