[发明专利]含不饱和键支链的共聚物及其光致抗蚀剂组合物有效
申请号: | 99126266.2 | 申请日: | 1999-12-22 |
公开(公告)号: | CN1114629C | 公开(公告)日: | 2003-07-16 |
发明(设计)人: | 宋清潭;杨胜俊;刘宜桦 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院;长春人造树脂厂股份有限公司 |
主分类号: | C08F222/08 | 分类号: | C08F222/08;C08F220/02;G03F7/027 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑霞,杨淑媛 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种可作为感光性树脂的含不饱合键支链的共聚物,其是含不饱合键的单体和含不饱合键的酸酐单体的共聚物,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的酸酐官能团与含不饱合键的醇类经酯化开环反应而单酯化,并产生羧酸基团,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的羧酸基团被环氧乙基化合物经环氧基开环反应而成为酯基。本发明还涉及含该共聚物的光致抗蚀剂组合物及其在印刷电路板制程中的应用,其具有良好的光敏性、解析度和耐电镀特性。 | ||
搜索关键词: | 不饱和 键支链 共聚物 及其 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.一种含不饱合键支链的共聚物,其为含不饱合键的单体和含不饱合键的酸酐单体的共聚物,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的酸酐官能团被一含不饱合键的醇类经由酯化开环反应而单酯化,并产生羧酸基,该共聚物中有0.01至100摩尔百分比的羧酸基被一环氧乙基化合物经由环氧基开环反应而成为酯基,该环氧乙基化合物包括含有不饱合键的环氧乙基化合物和/或含有杂原子的环氧乙基化合物,该杂原子选自硅、氮、磷及硫,其中该含不饱合键的单体不具有酸酐基;其重均分子量介于5000至250000之间,酸值介于50至250之间。
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