[发明专利]一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法无效
| 申请号： | 99127130.0 | 申请日： | 1999-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1154666C | 公开（公告）日： | 2004-06-23 |
| 发明（设计）人： | 方自强 | 申请（专利权）人： | 天津市方氏化工技术有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/44 | 分类号： | C08F2/44 |
| 代理公司： | 天津德赛律师事务所 | 代理人： | 卢枫 |
| 地址： | 300192天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法，它的方法简单，生成的产品抗紫外线性能稳定，它是将纳米氧化物与聚合单体按照重量比1.5-10∶98.5-90的比例混合，在真空下进行高速搅拌至混合均匀后，进行常规聚合。本发明不仅方法简单，而且生成的新型抗紫外线高分子材料抗紫外线性能稳定。衰减速率小，对紫外线的吸收率达50-98％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 紫外线 高分子材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法，其特征在于，将纳米氧化物与聚合单体按照重量比1.5-10∶98.5-90混合后，在真空下高速搅拌至混合均匀，再按照单体聚合的反应条件进行聚合交联。
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