[发明专利]光吸收聚合物及其抗反射涂层的应用

摘要

本发明公开了一种高性能抗反射涂层，其可高度吸收给定光线，如远紫外线，在形成涂层后能够坚固地粘附于基质上，这种抗反射涂层具有满意的覆盖性能，并能消除驻波在生产集成电路中的影响；本发明还公开了用于形成抗反射涂层的新的光吸收聚合物；公开了聚合物的生产方法。聚合物之一是通过用具有羟基化的芳族发色团酯化含羧酸酸酐和/或二元羧酸基团如马来酸作为碱性重复单元生产的。仍然在酯化后的光吸收聚合物中的未反应的羧酸基团或酸酐基团可用胺化的芳族化合物进行胺化和/或亚酰胺化。这些聚合物中的每一个溶解于包含醇、芳族烃、酮、酯或其混合物的有机溶剂中，将所得溶液涂敷于基质上，然后进行烘烤以形成抗反射涂层。

主权项

1.一种光吸收聚合物，其至少包含分子式1表示的重复单元和分子式2表示的重复单元：其中R1和R2相同或不同，每一个表示氢原子或烷基，Ar表示有机发色团，该有机发色团为取代或未取代的苯基、萘基或蒽基，n表示0或1或大于1的整数；其中R3和R4相同或不同，每一个表示氢原子或烷基，Y表示氢原子、取代或未取代的烷氧基或取代或未取代的烷基。