[发明专利]干式成像材料及干式成像方法无效
申请号: | 99800658.0 | 申请日: | 1999-02-26 |
公开(公告)号: | CN1266506A | 公开(公告)日: | 2000-09-13 |
发明(设计)人: | 内堀孝博;樋口彻也;铃木雅雄;杉本佳孝 | 申请(专利权)人: | 塞科拉系统株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C09J7/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邰红,杨丽琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供在高温高湿环境,影像稳定性好,彩色平衡不破坏的全彩色干式成像材料及干式成像方法。干式成像材料是在支持体的一个侧面具有感光性感压记录层、树脂层、粘接层、且支持体及粘接层中至少一方是透明的、感光性感压记录层含有微胶囊和显色剂、并有单层或叠层结构,微胶囊内部相中至少含光固化性化合物、光引发剂及色素前体,干式成像方法是从干式成像材料的支持体或粘接层透明侧进行图像曝光、加压显影。 | ||
搜索关键词: | 成像 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一种干式成像材料,其特征是,在支持体上,从支持体的一个侧面上具有感光性感压记录层、树脂层、粘接层,而且,支持体及粘接层两者中至少有一个是透明的,感光性感压记录层中含有微胶囊和显色剂,并具有单层或叠层结构,而微胶囊的内部相中至少含有光固化性化合物、光引发剂和色素前驱体。
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