[发明专利]耐腐蚀性永磁体及其制造方法有效
| 申请号： | 99800747.1 | 申请日： | 1999-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1142561C | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 吉村公志;西内武司;菊井文秋 | 申请（专利权）人： | 住友特殊金属株式会社 |
| 主分类号： | H01F1/057 | 分类号： | H01F1/057;C23C14/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 龙传红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种Fe-B-R永磁体，通过设置与Fe-B-R永磁体的粘附性优异并且改善了耐磨性和耐腐蚀性的涂敷膜，使永磁体呈现稳定的高磁性能、耐磨性、电绝缘性能、和耐腐蚀性，当长时间暴露于80℃温度和90％相对湿度的大气条件下，从初始磁性能的退化最小。通过离子溅射等清洁永磁体表面之后，通过汽相成膜法例如离子镀在磁体表面形成Al或Ti涂敷膜，然后通过汽相成膜法例如离子镀，同时引入单一O2气体或者含O2稀有气体，形成氧化铝涂敷膜。由此，显著地改善了与涂敷膜的粘附性，实现了突出的耐腐蚀性能。于是，由于耐腐蚀性金属涂敷膜带来的耐腐蚀性、耐磨性和电绝缘性能，所以获得了呈现稳定磁性能的Fe-B-R永磁体。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀性 永磁体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种耐腐蚀性永磁体，在Fe-B-R永磁体表面上具有膜厚0.1-10μm的氧化铝层，其间或者插入膜厚0.06μm-30μm的Al涂敷膜，并且在Al涂敷膜和氧化铝之间的界面产生AlOx，0＜x＜1；或者在其间插入膜厚0.06μm-30μm的Ti涂敷膜，并且在Ti涂敷膜和氧化铝之间的界面产生(Ti-Al)Ox，0＜x＜1。
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