[发明专利]卫生陶器及其制造方法有效
申请号: | 99800840.0 | 申请日: | 1999-05-27 |
公开(公告)号: | CN1272101A | 公开(公告)日: | 2000-11-01 |
发明(设计)人: | 町田光义;林浩一;石桥弘孝;一木智康;伊藤正昭;安藤正美;北村厚;青岛利裕;川上克博;堀内智;早川信 | 申请(专利权)人: | 东陶机器株式会社 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邰红,杨丽琴 |
地址: | 日本福冈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种可以控制釉药层表面的、难以污染、耐久性优良或者光泽性优良的卫生陶器。其第1方案卫生陶器是在陶器坯体上形成表面釉药层的卫生掏器,其中上述表面釉药层的中心线平均粗糙度Ra小于0.07μm。该卫生陶器极难污染,而且即使污染,用弱的水流也可以除去。第2方案卫生陶器是在陶器坯体上形成表面釉药层的卫生陶器,其中上述表面釉药层的峭度Rku小于2.70。该卫生陶器具有极其良好的表面光泽性。进而,第3方案卫生陶器是在陶器坯体上形成表面釉药层的卫生陶器,其中上述表面釉药层的表面是玻璃成分构成的,而且,表面上观察不到10μm以上的二氧化硅粒子。此卫生陶器具有污物难以附着的优点。 | ||
搜索关键词: | 卫生 陶器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、卫生陶器,其是在陶器坯体上形成表面釉药层的卫生陶器,用JIS-B0651(1996年)标准的触针式表面粗糙度测定装置测定的上述表面釉药层的中心线平均粗糙度Ra小于0.07μm。
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