[发明专利]用于形成辐射吸收涂层的组合物和由其形成的抗反射涂层无效
| 申请号： | 99801068.5 | 申请日： | 1999-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1152074C | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | 康文兵;木村健;松尾祥子;西协良典;田中初幸 | 申请（专利权）人： | 克拉瑞特金融（BVI）有限公司 |
| 主分类号： | C08G18/80 | 分类号： | C08G18/80;C09D175/04;G02B1/10;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 英属维尔京群*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于形成辐射吸收涂层的组合物，该组合物包含一种有机溶剂，一种辐射吸收聚合物或一种溶解于其中的辐射吸收材料及具有封端的异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基团被封端，因此，包含该交联剂的组合物具有优异的稳定性。当将组合物涂敷于基底上并烘烤时，交联反应给出抗反射涂层，其不会与通过涂敷在其上形成的抗蚀剂层相互混合，因而不会发生来自抗蚀剂层的光产酸的扩散。结果，可形成无沉积或浮渣的抗蚀剂图像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 辐射 吸收 涂层 组合 反射 | ||
【主权项】：
1、一种用于形成辐射吸收涂层的组合物，该组合物包含一种辐射吸收材料和一种具有两个或多个封端的异氰酸酯基团的化合物，所述具有封端的异氰酸酯基团的化合物为由下述通式(II)表示的聚合物或由下述通式(III)表示的甲醛与异氰酸苯酯间的缩聚物，![]()
所述由通式(II)表示的聚合物平均分子量为1,000～500,000，该聚合物包含在其侧链上具有用醇、酚或肟化合物之一封端的异氰酸酯基团的重复单元，其中，Y表示氢原子、1～3个碳原子的烷基或卤原子，Z表示氧原子或NH，R3表示1～20个碳原子的烷基、4～30个碳原子的芳环基团或3～20个碳原子的含亚氨基的有机基团；![]()
所述由通式(III)表示的缩聚物平均分子量为500～500,000，该缩聚物具有用醇、酚或肟化合物之一封端的异氰酸酯基团，其中，R4和R5分别表示1～20个碳原子的烷基、4～30个碳原子的芳环基团或3～20个碳原子的含亚氨基的有机基团。
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