[发明专利]发光二极管阵列及光学打印头无效
| 申请号： | 99803130.5 | 申请日： | 1999-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN1291140A | 公开（公告）日： | 2001-04-11 |
| 发明（设计）人： | 稻叶昌治 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社;鸟取三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/45 | 分类号： | B41J2/45;H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光学打印头,具有密度高于600dpi的发光二极管阵列,其引线可牢固可靠地进行键合。该发光二极管阵列在除发光区和电极布线盘(单独电极)之外的电极布线表面上,具有由聚酰亚胺系材料制成的厚膜表面保护膜。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管 阵列 光学 打印头 | ||
【主权项】：
1．一种发光二极管阵列，该发光二极管阵列具有排成一排的多个发光区，以及通过电极布线与排成多个排的发光区单独相连的单独电极，其特征在于，至少在除单独电极之外的电极布线上具有保护膜。
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