[发明专利]制造光学非线性薄膜波导的方法和光学非线性薄膜波导无效
申请号: | 99803849.0 | 申请日: | 1999-02-23 |
公开(公告)号: | CN1126972C | 公开(公告)日: | 2003-11-05 |
发明(设计)人: | 藤原巧;生嶋明;米田修 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社;学校法人丰田学园 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/35 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 陈霁,张志醒 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 掺Ge的SiO2薄膜12形成在玻璃基质(10)上,金属膜(14)形成在上面(S11至S13)。通过蚀刻金属膜(14),形成彼此相距预定间隔的一对电极(14a,14b)(S14)。薄绝缘膜(16)形成在薄膜(12)及电极(14a,14b)上(S15)。施加紫外辐射的同时,在电极(14a,14b)之间施加高压,以便完成UV激发变换,给予通道部分(18)以光学非线性(S16)。通过控制施加到光学非线性的通道部分(18)上的电压,控制透过通道部分(18)的光。这样,在玻璃基质上形成传播单模光的光学非线性波导。 | ||
搜索关键词: | 制造 光学 非线性 薄膜 波导 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造光学非线性薄膜波导的方法,包括如下步骤:在玻璃基质上形成含有Ge的SiO2薄膜;在所述SiO2薄膜上形成薄金属电极膜,在电极膜之间具有间隙,所述间隙的形状对应于波导图案;以及在所述薄金属电极膜上提供薄透明绝缘膜以便覆盖至少所述间隙,然后用紫外辐射通过所述间隙照射所述含有Ge的SiO2薄膜,同时在所述金属电极膜之间的所述间隙之间加电压。
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