[发明专利]生产高纯铝初级基底金属的方法无效
申请号: | 99805128.4 | 申请日: | 1999-09-09 |
公开(公告)号: | CN1297494A | 公开(公告)日: | 2001-05-30 |
发明(设计)人: | 内田宽 | 申请(专利权)人: | 日本轻金属株式会社 |
主分类号: | C25C3/06 | 分类号: | C25C3/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,钟守期 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供出一种生产具有至少99.95重量%的高纯铝初级基底金属的方法,或者生产纯度接近于4N、即二次精炼基底金属纯度值的方法。将经过酸洗降低Si组分的矾土作为主要原料放入霍尔—赫罗尔特电解槽中。使用硫酸水溶液、硫酸加氢氟酸的水溶液或类似的水溶液来进行酸洗。为了除去Si,优选把酸性水溶液加热到至少40℃。由于使用除过灰的焦炭和/或沥青作为阳极用碳材料,加上使用酸洗过的矾土,就可生产出Si和Fe含量被进一步减少的高纯铝初级基底金属。 | ||
搜索关键词: | 生产 高纯 初级 基底 金属 方法 | ||
【主权项】:
1.一种生产高纯铝初级基底金属的方法,它包括将由酸洗降低了Si含量的矾土作为主要原料,放入霍尔-赫罗尔特电解槽中。
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