[发明专利]用于193纳米波长的正性光刻胶组合物无效
| 申请号： | 99807271.0 | 申请日： | 1999-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN1305608A | 公开（公告）日： | 2001-07-25 |
| 发明（设计）人： | I·麦克洛克;A·J·伊斯特;M·坎格;R·克斯安;H－N·尤恩 | 申请（专利权）人： | 克拉里安特国际有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08G67/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种聚合物,当同适宜的光酸生成剂(PAG)使用时,生成正性光刻胶。该聚合物包括酒石酸聚酐的主链、缩醛保护的1,2－二醇基团和连接于主链的稠环缩醛侧基。缩醛保护的α－羟基酐主链进行有效的光酸催化的裂解生成小分子量片段,这些片段易溶于碱的含水的显影剂中。溶解度的高度差别使可以得到高分辨率图象,提供了耐蚀刻性的稠环包括金刚酮或将樟脑结构,随着加入市场购得的光酸生成剂,聚合物制剂形成正性光刻胶,可以提供高反差和高分辨率的图象。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 193 纳米 波长 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1．一种特别适用作光刻胶的聚合物，包括下面结构：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克拉里安特国际有限公司，未经克拉里安特国际有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/99807271.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
