[发明专利]用气态镁还原有关氧化物制备的金属粉末有效
| 申请号： | 99808374.7 | 申请日： | 1999-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN1308566A | 公开（公告）日： | 2001-08-15 |
| 发明（设计）人： | L·N·舍克特尔;T·B·特里普;L·L·拉宁;K·赖歇特;O·托马斯;J·维雷格 | 申请（专利权）人： | H·C·施塔克公司;H·C·施塔克公司 |
| 主分类号： | B22F1/00 | 分类号： | B22F1/00;B22F9/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,杨丽琴 |
| 地址： | 美国麻*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过将金属氧化物与优选为碱土金属的气态还原剂接触,直到几乎完成还原反应,然后通过浸提、进一步脱氧和烧结来制备含有或不含有选自Ta、No、Ti、Mo、W、V、Zr和Hf的一种或多种金属的Ta和/或Nb微细金属粉末,如此制备的粉末可被烧结成电容器阳极形式,并且可进行加工,用于其它用途。 | ||
| 搜索关键词： | 气态 还原 有关 氧化物 制备 金属粉末 | ||
【主权项】：
1.Ta、Nb和Ta-Nb合金单独的、或者是添加了选自Ti、Mo、W、Hf、V和Zr的一种或多种金属的或与其进行共制备的金属粉末的制备方法，包括以下步骤：(a)提供金属的一种氧化物或混合氧化物，该氧化物自身为气体可以穿过的形态，(b)在该氧化物外产生一种气态还原剂，并且在较高温度下将该气体通过氧化物，(c)所选择的反应物、氧化物孔率以及还原反应的温度和时间要基本上可完成上述氧化物的还原反应，以释放其中的金属部分，在反应中所形成的该还原剂的残留氧化物可被轻易除去，因此在金属或合金粉末的制备中，用一种基本上避免使用熔融态还原剂的方法，形成了一种高表面积粉末。
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