[发明专利]光反射薄膜和发光装置无效
| 申请号： | 99808638.X | 申请日： | 1999-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1124433C | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | 斋滕研一;富永正宪;杉井新治 | 申请（专利权）人： | 美国3M公司 |
| 主分类号： | F21V7/00 | 分类号： | F21V7/00;F21V17/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国明尼*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能根据操作条件容易地控制照射方向和照射范围并能有效地增加发光装置发射的光线强度的光反射薄膜。一种与光源的发光表面紧密接触的光反射薄膜，使部分所述发光表面覆盖所述薄膜，从而使所述发光表面剩余的未覆盖部分发出的光线强度得到增强，其特征在于所述光反射薄膜还包括介电光反射薄膜，其反射表面与光源的发光表面对置，以及与介电薄膜的反射表面紧密接触的透光粘合剂薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 薄膜 发光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光反射薄膜，它与光源的发光表面紧密接触，接触的方式是使部分所述发光表面被所述薄膜覆盖，从而使剩余的未覆盖发光表面部分发出的光线强度得到增强，其特征在于所述光反射薄膜还包括介电光反射薄膜，其反射表面与光源的发光表面对置，以及与介电薄膜的反射表面紧密接触的透光粘合剂薄膜。
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