[发明专利]用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 99809559.1 | 申请日： | 1999-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1312843A | 公开（公告）日： | 2001-09-12 |
| 发明（设计）人： | 弗拉斯塔·B·考夫曼;罗德尼·C·基斯特勒;王淑敏 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种包括磨料、氧化剂、配合剂、成膜剂和有机氨化合物的第一种化学机械抛光浆料;和包括磨料、氧化剂和乙酸且其中氧化剂与乙酸的比例至少为10的第二种抛光浆料,还公开了用第一和第二种抛光浆料顺序抛光含铜和含钽或氮化钽或钽和氮化钽两种的基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基材 化学 机械抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1．一种化学机械抛光浆料前体，包括：至少一种磨料；乙酸；和至少一种成膜剂。
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