[发明专利]注入式激光器无效

专利信息
申请号: 99810575.9 申请日: 1999-08-05
公开(公告)号: CN1150667C 公开(公告)日: 2004-05-19
发明(设计)人: 瓦西里·依凡诺维奇·施维京 申请(专利权)人: 瓦西里·依凡诺维奇·施维京
主分类号: H01S5/32 分类号: H01S5/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 姜丽楼
地址: 俄罗斯*** 国省代码: 俄罗斯;RU
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及具有特殊结构光学谐振腔的注入式激光器,整个谐振腔包含用于强出射放大的放大区有源体积以及辐射进入区(7)的无源体积,该体积包含多个激光异质结构(2)层和相应的组分和厚度,辐射进入区(7)的光学小面(8,9)有不同的结构,还包含欧姆接触(15,16),因此能确定激光辐射模式的形成区域以及他们的受激复合和非平衡载流子的注入区,还可增加激光辐射的功率,减小电流阈值密度,增加激光效率,对于互相垂直的辐射出流方向降低发散角到衍射角,还可增加产生单模过程的规律性,改善空间光学特性,降低激光辐射的波长对泵浦电流的依赖性,增加使用寿命和可靠性,还涉及具有提高垂直工作层面输出激光辐射的高效激光器,以及利用自激活的具有高功率激光束的激光器。
搜索关键词: 注入 激光器
【主权项】:
1.一种注入式激光器,包含至少一个具有纵向增益轴的增益区,并以出流角输出激光辐射,所述的注入式激光器包含:一激光器异质结构,该结构包含:一至少由一增益区形成的工作层;至少包含一具有折射率的包覆子层的包覆层,和欧姆接触;以及至少一邻接于对于所述激光辐射透射的激光器异质结构的辐射入流区,其折射率为nRIR,,并位于所述工作层的至少一侧面上;反射器共同构成一谐振腔,至少部分所述谐振腔与至少部分所述辐射入流区和至少部分所述增益区相一致,谐振腔的反射器中的至少之一具有反射系数,其中,所述激光器异质结构和相邻的辐射入流区一起具有有效的折射率为neff,并使,nRIR大于neff arccos(neff/nRIR)≤arccos(neff-min/nRIR);以及neff-min≥nmin 这里,neff-min是具有从工作层出射辐射的出流进入辐射入流区的异质结构的neff的最小值,该nmin是异质结构的包覆层内最小的折射率值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦西里·依凡诺维奇·施维京,未经瓦西里·依凡诺维奇·施维京许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99810575.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top