[发明专利]处理基质的方法和装置有效
申请号: | 99810691.7 | 申请日: | 1999-07-01 |
公开(公告)号: | CN1164160C | 公开(公告)日: | 2004-08-25 |
发明(设计)人: | K·赛尔纳;S·潘策尔 | 申请(专利权)人: | 西门子生产及后勤系统股份公司 |
主分类号: | H05K13/08 | 分类号: | H05K13/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郑立柱;张志醒 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 在多个前后安排的自动处理机(6,8)上当处理基质(1)时经过电路标记或者功能标记已经求出每个自动处理机(6,8)上基质(1)的位置座标和附加的几何数据和将其利用在处理上。按照本发明只在第一个自动处理机(6)上求出几何数据和经过一个总线系统(13)传送到第二个自动处理机(8)和在第二个自动处理机(8)上被利用,这导致了比较少的时间费用。本发明还涉及自动的元件安装机。 | ||
搜索关键词: | 处理 基质 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种在至少两个自动处理机(6,8)上处理基质(1)的方法,用于将电子组件插装在基质(1)上,该方法包括:在第一个自动处理机(6)上,将基质(1)至少暂时固定,求出基质(1)在第一个自动处理机(6)上的位置座标,和基质(1)的几何数据,在考虑位置座标和几何数据的情况下处理基质(1),将基质(1)传送到第二个自动处理机(8)和在那里至少暂时固定,将几何数据传送到第二个自动处理机(8)上,在第二个自动处理机(8)上确定基质(1)的位置座标,和在考虑到在第二个自动处理机(8)上所确定的位置座标和被传送的几何数据的情况下将基质(1)进行处理。
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