[发明专利]用于正性光刻胶的混合溶剂体系无效
| 申请号： | 99812005.7 | 申请日： | 1999-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN1160597C | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | J·N·艾尔贝克;A·D·迪奥赛斯 | 申请（专利权）人： | 克拉里安特国际有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种适用作光刻胶的光敏正性的组合物，其中包括至少一种成膜树脂、至少一种光敏剂和含大于50％重量的亚烷基二醇烷基醚和低于50％重量的或烷氧基丙酸烷基酯或烷基戊基酮的光刻胶溶剂混合物，以及一种制备这种光刻胶组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 混合 溶剂 体系 | ||
【主权项】：
1.一种正性光刻胶组合物，主要包括如下成分的混合物：a)以光刻胶组合物的固体部分为基准，15-99％重量的至少一种成膜树脂，b)以光刻胶组合物的固体部分为基准，1-85％重量的至少一种光敏剂成分，以及c)以组合物总重量为基准，40-90％重量的光刻胶溶剂混合物，所述溶剂混合物的70-90％重量是C1-C4亚烷基二醇C1-C4烷基醚，溶剂混合物其余成分为由C1-C4烷基戊基酮或C1-C4烷氧基丙酸C1-C4 烷基酯组成。
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