[发明专利]长久保持记忆力的低印记铁电材料及其液体前体和制作方法有效

专利信息
申请号: 99812156.8 申请日: 1999-09-21
公开(公告)号: CN1154164C 公开(公告)日: 2004-06-16
发明(设计)人: 科吉·阿里塔;林慎一郎;约瑟夫·D·库奇阿罗;卡洛斯·A·帕斯·德阿劳约 申请(专利权)人: 塞姆特里克斯公司;松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/316 分类号: H01L21/316
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蹇炜
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种液态前体,用于在集成电路中形成铁电金属氧化物薄膜(313),其中包含超过了化学计量平衡量的金属氧化物。当前体包括用于形成锶、铋、钽、铌酸盐的锶、铋、钽和铌时,这个前体包含过量的钽和铌中的至少一种。电容器包含分层超晶格材料的薄膜(313),此超晶格材料由包含了过量的钽和铌的前体制造,因此在75℃下经过1010个负极化转换脉冲之后,以及在125℃下经过109个负极化转换脉冲之后,电容器表现出优良的极化率和低百分率印记。
搜索关键词: 长久 保持 记忆力 印记 材料 及其 液体 制作方法
【主权项】:
1.一种制造集成电路的方法,包括提供含有用于形成铁电分层超晶格混合物的有效数量的金属成份的前体;在基片上形成一前体薄膜;对所述前体薄膜进行退火,其特征在于:所述前体所包含的金属成份的量与化学计量不平衡化学式AaSbBcO[9+(a-1)+(b-2)(1.5)+(c-2)(2.5)]相对应;其中a≤1、b≥2、并且c>b。
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