[发明专利]光刻胶及微平版印刷术无效

专利信息
申请号: 99812637.3 申请日: 1999-10-26
公开(公告)号: CN1324456A 公开(公告)日: 2001-11-28
发明(设计)人: F·L·沙德特三世;M·弗赖德;M·佩里雅萨米 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/004
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王景朝,钟守期
地址: 美国特拉华*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了用于紫外(UV)区和紫区微平版印刷术的正性光刻胶及相关的工艺。该光刻胶包含(a)含经保护的酸基的支链聚合物和(b)至少一种光致产酸剂。此光刻胶对整个UV区具有高透明性,有良好的显影性能,抗等离子体蚀刻性高及其它合乎需要的性能,因而对近、远和特远UV,特别是在短于或等于365nm的波长处的微平版印刷术很实用。
搜索关键词: 光刻 平版 印刷术
【主权项】:
1、正性光刻胶,包括:(A)含有经保护的酸基的支链聚合物,此聚合物包括一个或多个沿线形主链段化学键接的分枝链段;以及(B)至少一种光致产酸剂。
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