[发明专利]制作粘着性表面覆层的方法

摘要

本发明涉及一种在无机基体或有机基体上制作粘着性表面覆层的方法，其特征在于，以下步骤：a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射对无机基体或有机基体起作用，接着停止照射或放电；在另一步骤中，b)在真空下或者在常压下，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上，并令其与涂层中产生的游离基位置(Radikalstellen)进行反应；并且c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并用UV/VIS照射，使覆层固化；或者c2)在紫外光存在下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上由气相沉积金属、半金属或金属氧化物。本发明的另一个主题是含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂在制作所述那种涂层方面的应用，以及涂层本身。

主权项

1.一种在无机基体或有机基体上制作粘着性覆层的方法，其特征在于，在第一步骤中a)令低温等离子放电、电晕放电、高能量紫外线辐照或者电子束照射在10-6mbar至大气压力的工艺压力下在无机基体或有机基体上起作用1s至300s，接着停止照射或放电；然后在另一步骤中，b)在真空下或者在常压下，在20℃至250℃之间的温度下，在1s至10min中，将一种或多种含有至少一个烯不饱和基团的光引发剂涂布在无机或有机基体上，并令其与步骤a)中产生的自由基位置进行反应；并且c1)如此预先涂布了光引发剂的基体上涂布以含有至少一种烯不饱和单体或低聚物的组合物，并在250nm至450nm波长范围内用紫外/可见光照射，使覆层固化；或者c2)在紫外光存在下，于如上所述那样预先涂布了光引发剂的基体上在300至2000℃的坩埚温度下由气相沉积金属、半金属或金属氧化物。