[发明专利]掩膜作轨道运动以形成激光烧蚀的特征物无效
| 申请号： | 99813496.1 | 申请日： | 1999-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN1326394A | 公开（公告）日： | 2001-12-12 |
| 发明（设计）人： | C·L·休梅克;L·A·阿吉雷 | 申请（专利权）人： | 美国3M公司 |
| 主分类号： | B23K26/06 | 分类号： | B23K26/06;B41J2/16;B41J2/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于从衬底中烧蚀得到特征物的过程,该过程包括以下步骤用透过掩模的激光照射衬底,在衬底中形成烧蚀特征物。在形成特征物期间,掩模沿垂直于激光角度的轨道运动,从而形成一选定的壁面形状。本发明还涉及一种用于在衬底中制孔的设备,该设备包括辐射源;位于辐射源以及受辐射源之辐射照射的衬底之间。掩模能够跟随垂直到辐射角度的轨迹线。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜作 轨道 运动 形成 激光 特征 | ||
【主权项】：
1.一种在衬底中烧蚀特征物的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：用透过掩模的辐射照射衬底，在衬底中形成一个经烧蚀得到的特征物，在形成烧蚀特征物期间，掩模跟踪一条垂直于光轴的预定轨迹线，从而形成一个选定的壁面形状。
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