[发明专利]带有可装载的罩的换向线性抛光机无效
| 申请号： | 99813992.0 | 申请日： | 1999-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1131765C | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 胡马云·塔利赫 | 申请（专利权）人： | 纳托尔公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B21/04;B24B47/04;//H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘志平 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明针对应用可沿前面与换向运动的垫(6)来抛光半导体晶片(18)表面的方法与设备(2)，在VLSI与ULSI两方面的应用中，特别要求将晶片(18)表面抛光至完善的平度。抛光垫(6)的前向与换向运动给晶片(18)表面提供了优越的平面性与均匀性。此晶片(18)表面在抛光垫(6)作前向与换向运动而对其抛光时压贴到此抛光垫上。在抛光过程中，晶片(18)则由可应用新颖的装卸晶片的方法的晶片罩支承。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 装载 换向 线性 抛光机 | ||
【主权项】：
1.用于抛光半导体晶片表面的化学机械抛光装置，它包括：适用于支承晶片的晶片罩；以及具有以双向线性运动抛光此晶片表面的垫的抛光站。
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