[发明专利]制造振动结构陀螺的方法无效

专利信息
申请号: 99814913.6 申请日: 1999-12-17
公开(公告)号: CN1128342C 公开(公告)日: 2003-11-19
发明(设计)人: 克里斯托弗·P·费尔;凯文·汤森;伊恩·斯特兰 申请(专利权)人: BAE系统公共有限公司
主分类号: G01C19/56 分类号: G01C19/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张兆东
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种振动结构陀螺,其制造方法如下:在玻璃或硅基片(7)上沉积光刻胶(9),对光刻胶(9)进行硬化、图形制备及显影,以暴露出基片(7)的某些区域,对这些暴露区域进行刻蚀以形成凹槽(10),剥离剩余的光刻胶(9),在形成凹槽的基片(7)上粘附硅层(8)并在硅层(8)上沉积一层铝,在铝层上沉积光刻胶,对光刻胶进行硬化、图形制备及显影,以暴露出铝层的某些区域,对铝层的暴露区域进行刻蚀,在硅层部分区域留下铝从而形成压焊区(11,12,13和14),在结构上形成一层以上的图形化的光刻胶层,对硅层(8)上的暴露区域进行反应性离子深刻蚀,从而构成靠轴心(4)固定在凹槽(10)上方的平面环形振动结构(1)。
搜索关键词: 制造 振动 结构 陀螺 方法
【主权项】:
1.一种制造振动结构陀螺的方法,该陀螺具有硅质基本上呈平面环形的振动结构、用于向该振动结构传递驱动运动并检测其运动的电容装置、以及电容装置周围的屏蔽层,该方法包括以下步骤:在平板状玻璃或硅基片的表面之一上沉积第一层光刻胶,对第一层光刻胶进行硬化、图形制备及显影,以暴露出基片的选定区域,对基片的暴露的所述选定区域进行刻蚀以形成凹槽,将形成凹槽的基片上剩余的第一层光刻胶剥离,在基片形成所述凹槽的表面上粘附一层硅,在硅层最远离其与基片相粘附表面的另一表面上沉积一层铝,在铝层相对于硅层的最外表面上沉积第二层光刻胶,对第二层光刻胶进行硬化、图形制备及显影,以暴露出铝层的选定区域,对铝层的所述选定区域进行刻蚀,在硅层部分区域留下铝从而形成:用于使屏蔽层接地的压焊区、用于形成电容式驱动与检测装置接点的压焊区、以及用于与硅质基本上呈平面环形的振动结构接电的压焊区,从铝层剥离剩余的第二层光刻胶,在硅层上沉积第三层光刻胶,覆盖住剩余的沉积有铝层的区域,对第三层光刻胶进行硬化、图形制备及显影,以暴露出硅层的选定区域,对硅层上暴露的选定区域进行反应性离子深刻蚀,以使硅层构成:电容式驱动与检测装置、周围屏蔽层,以及靠轴心固定在基片凹槽上方的平面环形振动结构,使该环形结构能够自由振荡,并且使电容式驱动与检测装置、屏蔽层以及环形振动结构彼此之间电绝缘。
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