[发明专利]使用双轴回射元件的成像装置和成像方法无效
| 申请号： | 99816550.6 | 申请日： | 1999-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN1354835A | 公开（公告）日： | 2002-06-19 |
| 发明（设计）人： | J·F·德雷尔 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/124 | 分类号： | G02B5/124 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明说明了使用双轴回射元件(例如90度棱镜和线性透镜元件)的成像装置和方法,其中成像可以是叠印在被成像物体上或者从成象物体偏移。如果成像是叠印在被成像物体上,这是通过回射完成的。如果成像是从被成像物体偏移,这可以通过双轴回射或者回透射完成。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 双轴回射 元件 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学成像装置，其特征在于，包含：一个第一侧，包括位于第一平面的多个第一双轴回射元件，每个第一双轴回射元件通常与第一轴对齐，所述第一侧还包含多个平的透射性第一表面，所述第一表面与所述第一平面平行；和一个第二侧，包括位于第二平面的多个第二双轴回射元件且与第二轴对齐，所述第二侧还包含多个平的反射性第二表面，所述第二表面与所述第二平面平行，所述第二双轴回射元件与第一侧分开，其中第一和第二轴一般互相垂直。
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