[发明专利]引线框架及其电镀方法无效
申请号: | 00101997.X | 申请日: | 2000-02-04 |
公开(公告)号: | CN1290963A | 公开(公告)日: | 2001-04-11 |
发明(设计)人: | 李圭汉;李尚勋;姜圣日;朴世哲 | 申请(专利权)人: | 三星航空产业株式会社 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L23/488;H01L23/495;H01L23/50;C23C30/00;C23C28/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杜日新 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 引线 框架 及其 电镀 方法 | ||
1.一种半导体封装的引线框架的制造方法,包括:
在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成保护层;
在保护层上用钯(Pd)或Pd合金形成中间层;
用Pd和金(Au)交替电镀中间层表面至少一次,形成包含Pd和Au颗粒的最外层。
2.按权利要求1的方法,其中,在交替电镀形成最外层的步骤中,可以首先在中间层上电镀Pd或Au。
3.一种半导体封装的引线框架,包括:
在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成的保护层;
保护层上用钯(Pd)形成的中间层;
在Pd中间层上用Pd和Au形成的最外层。
4.一种半导体封装的引线框架,包括:
在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成的保护层;和
在保护层上用Pd和Au形成的最外层。
5.一种半导体封装的引线框架,包括:
在金属衬底上用Ni或Ni合金形成的保护层;
在保护层上用钯(Pd)形成的中间层;和
在中间层上用金(Au)或金合金形成的电镀区,中间层的表面部分露出。
6.按权利要求5的引线框架,其中,电镀区的厚度在0.03微英寸之下。
7.按权利要求5的引线框架,其中,Au合金是Au-Pd合金或Au-Ag(银)合金。
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