[发明专利]引线框架及其电镀方法无效

专利信息
申请号: 00101997.X 申请日: 2000-02-04
公开(公告)号: CN1290963A 公开(公告)日: 2001-04-11
发明(设计)人: 李圭汉;李尚勋;姜圣日;朴世哲 申请(专利权)人: 三星航空产业株式会社
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/488;H01L23/495;H01L23/50;C23C30/00;C23C28/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 韩国庆*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 引线 框架 及其 电镀 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装的引线框架的制造方法,包括:

在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成保护层;

在保护层上用钯(Pd)或Pd合金形成中间层;

用Pd和金(Au)交替电镀中间层表面至少一次,形成包含Pd和Au颗粒的最外层。

2.按权利要求1的方法,其中,在交替电镀形成最外层的步骤中,可以首先在中间层上电镀Pd或Au。

3.一种半导体封装的引线框架,包括:

在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成的保护层;

保护层上用钯(Pd)形成的中间层;

在Pd中间层上用Pd和Au形成的最外层。

4.一种半导体封装的引线框架,包括:

在金属衬底上用镍(Ni)或Ni合金形成的保护层;和

在保护层上用Pd和Au形成的最外层。

5.一种半导体封装的引线框架,包括:

在金属衬底上用Ni或Ni合金形成的保护层;

在保护层上用钯(Pd)形成的中间层;和

在中间层上用金(Au)或金合金形成的电镀区,中间层的表面部分露出。

6.按权利要求5的引线框架,其中,电镀区的厚度在0.03微英寸之下。

7.按权利要求5的引线框架,其中,Au合金是Au-Pd合金或Au-Ag(银)合金。

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