[发明专利]高抗激光损伤阈值疏水增透二氧化硅膜的制备方法无效
| 申请号： | 00102468.X | 申请日： | 2000-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1142450C | 公开（公告）日： | 2004-03-17 |
| 发明（设计）人： | 孙予罕;张晔;吴东;章斌;范文浩 | 申请（专利权）人： | 中国科学院山西煤炭化学研究所 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 山西五维专利事务所有限公司 | 代理人： | 李毅;魏树巍 |
| 地址： | 03000*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 损伤 阈值 疏水 二氧化硅 制备 方法 | ||
【说明书】：
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