[发明专利]含加宽绿响应性乳剂的照相胶片元件无效
申请号: | 00103706.4 | 申请日: | 2000-03-01 |
公开(公告)号: | CN1273374A | 公开(公告)日: | 2000-11-15 |
发明(设计)人: | L·A·比塔诺;S·G·林克;A·F·索温斯基 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C7/26 | 分类号: | G03C7/26;G03C1/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,王其灏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 加宽 响应 乳剂 照相 胶片 元件 | ||
本发明涉及制备用于彩色照相元件中感绿层单元的卤化银乳剂。该元件特别适用于扫描、电子变换和恢复还原为与人视觉系统相应的精确记录光的可观察形式。
术语“E”用以表示曝光量,以勒克司-秒表示。
术语“M态密度”(Status M密度)用以表示由一种密度计测定的影像染料密度,该密度计符合“照相科学和工程SPSE手册”(SPSEHandbook of Photographic Science and Engineering,W.Thomas,editor,John Wiley & Sons,New York,1973,Section 15.4.2.6.Color Filters)中所述的光电池和滤色片规格。M态密度的国际标准陈述在“照相术-密度测定-部份3:光学条件”,Ref.No.ISO 5/3-1984(E)中。
术语“反差系数”用以表示由相应的曝光量对数递增(Δlog E)而产生的影像密度递增(ΔD),以及表示在第一特性曲线基准点(在最小密度以上0.15密度处)和第二特性曲线基准点(与第一基准点隔开0.9log E)之间延伸的曝光范围内所测定的最大反差系数。
术语“成色剂”是指与已氧化的彩色显影剂反应的化合物,以产生或调整染料发色团的色调。
就形成蓝,绿和红记录染料影像的层单元来说,所谓“层单元”是指亲水胶体层,或指为捕获曝光射线含对射线敏感的卤化银颗粒,和颗粒显影时进行反应的成色剂层。颗粒和成色剂一般在同一层中,但也可能在相邻的层中。
术语“曝光宽容度”是指特性曲线段的曝光范围,在此范围内瞬时反差系数(ΔD/Δlog E)至少是以上定义的反差系数的25%。具有多种彩色记录单元的彩色元件的曝光宽容度是指这样一个曝光范围,在此范围内红、绿和蓝彩色记录单元的特性曲线同时满足上述定义。
术语“有色蒙罩成色剂”是指起始为有色的成色剂,但它的起始色在显影时与氧化的彩色显影剂反应时要失去。
术语“基本上不含有色蒙罩成色剂”是指有色蒙罩成色剂总涂布量少于0.09毫摩尔/平方米。
术语“形成染料影像的成色剂”是指与氧化的彩色显影剂反应产生染料影像的成色剂。
术语“释放显影抑制剂的化合物”或“DIR”是指在彩色显影时分解而释放显影抑制剂的化合物。如所定义的,DIR包括成色剂和利用邻位及定时释放机理的其他化合物。
涉及含二种或更多种卤化银的颗粒和乳剂,卤化物按浓度上升的次序命名。
涉及颗粒和乳剂的术语“高氯”和“高溴”指以银为基础计,氯化物或溴化物的浓度分别要大于50摩尔%。
术语“等效圆直径”或“ECD”是用以表示与卤化银颗粒有同样投影面积的圆的直径。
术语“纵横比”表示颗粒ECD对颗粒厚度(t)的比值。
术语“片状颗粒”是指具有二个平行晶面的颗粒,这两个晶面显然大于任何其余的晶面,而且纵横比至少为2。
术语“片状颗粒乳剂”指的是一种乳剂,其中片状颗粒占总颗粒投影面积50%以上。
术语“蓝光谱增感染料”,“绿光谱增感染料”和“红光谱增感染料”指的是使卤化银颗粒增感的染料或染料的组合,而且当它们被吸附时,分别在蓝、绿和红光谱区有它们的吸收峰。
涉及染料的术语“半峰带宽”指的是一段光谱区,该区域内染料的吸收值至少是其最大吸收波长处的吸收值的一半。
术语“总半峰带宽”是指一段光谱区,该区域内层单元中光谱增感染料组合后显示的吸收值,至少是该组合染料在各自最大吸收波长处吸收的吸收值相结合的一半。
“研究发现”(Research Disclosure)是由Kenneth MasonPublications,Ltd.出版,地址是,Dudley House,12 North St.,Emsworth,Hampshire P010 7DQ,England.
彩色照相元件通常是用重叠的蓝、绿和红记录层单元涂布在支持体上形成的。蓝、绿和红记录层单元含有对射线敏感的卤化银乳剂,它们分别在响应蓝、绿和红光时形成潜影。另外,蓝记录层单元含有形成黄染料的成色剂,绿记录层单元含有形成品染料的成色剂,而红记录层单元含有形成青染料的成色剂。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00103706.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高压用瓷绝缘子
- 下一篇:管壳式换热器以及在管壳式换热器内抑制聚合反应的方法