[发明专利]用于玻璃熔体流的真空脱气法

权利要求书

1.一种用于玻璃熔体的真空脱气法，该方法包括下列步骤：

在压力P[mmHg]下将玻璃熔体输入真空室，使玻璃熔体受到的压力在38[mmHg]-(P-50)[mmHg]范围，对玻璃熔体进行脱气，

在压力P[mmHg]下以Q[吨/小时]的流量从真空室排出经脱气的玻璃熔体，

玻璃熔体在真空室中的停留时间在0.12-4.8小时范围，停留时间是将真空室中流动的玻璃熔体重量W[吨]除以玻璃熔体流量Q[吨/小时]获得的。

2.如权利要求1所述的用于玻璃熔体的真空脱气法，其中所述真空室包括一个真空脱气器，玻璃熔体以基本上水平状态通过该真空脱气器进行脱气，真空脱气器中玻璃熔体的深度H[米]和玻璃熔体的重量W[吨]满足下式(1)：

               0.010米/吨＜H/W＜1.5米/吨    (1)。

3.如权利要求1或2所述的用于玻璃熔体的真空脱气法，其中所述玻璃熔体在真空脱气器中的表面积S₁[米²]和玻璃熔体流量Q[吨/小时]满足下式(2)：

           0.24米²·小时/吨＜S₁/Q＜12米²·小时/吨    (2)。

4.如权利要求2或3所述的用于玻璃熔体的真空脱气法，其中所述真空室包括一根连接到真空脱气器用于从其中排放玻璃熔体的向下管道，该向下管道连接到真空脱气器的流动通道的横截面积S₂[米²]和玻璃熔体流量Q[吨/小时]满足下式(3)：

          0.008米²·小时/吨＜S₂/Q＜0.96米²·小时/吨    (3)。