[发明专利]双侧曝光系统

说明书

本发明涉及双侧曝光系统。更具体地说，本发明涉及下述双侧曝光系统，该系统能够通过带有预定图案的、特别是带有一个灯曝光光源的掩模、对例如印刷电路用的基板，引线骨架用的薄板进行曝光。

一般来说，在例如制造高密度印刷电路板的工艺中使用超高压水银灯作为曝光光源，以便获得高分辨率。这种类型的水银灯为价格昂贵的灯，其价格高达500000日元。上述工艺要求水银灯连续进行照明，该水银灯的使用期限仅仅为500个小时左右。于是，如果可能，这种类型的曝光系统必须带有一个单个光源，该光源必须以尽可能最高的经济效率来使用；也就是说，需要通过采用在其寿命期限内持续尽可能多的曝光循环的光源，将每个印刷电路板用的基板的曝光费用(光源的运行费用)降低到尽可能最低的程度。

为了提高光源的经济效率，重要的是提高机械机构的操作速度，并且将等待时间，比如曝光等待时间减少到几乎为零，上述机械机构包括用于传送基板的传送机构，用于将基板与曝光掩模对准的对准调整机构。

参照表示申请号为JP特愿平9-343971(JP特开平10-333337)号文献所描述的双侧曝光系统100的图13，用于以可拆卸的方式保持基板(P)的作业保持座101包括分别带有真空垫103的相对表面，该作业保持座101反复在原始位置，即作业接纳机构105和作业输送机构107之间的虚线所示的位置，以及曝光位置，即分别保持曝光掩模113的两个掩模保持机构109L和109R之间的实线所示的位置之间移动。

汞弧灯111，即光源发出的光通过左侧光路传送，落到通过左侧掩模保持机构109L保持的曝光掩模113的后表面上，或上述光通过右侧光路传送，落到通过右侧掩模保持机构109R保持的曝光掩模113的后表面上。图中未示出的光路选择机构将汞弧灯有选择地与左侧光路，或右侧光路连通。上述作业接纳机构105调节供给的未曝光的基板P的位置以便实现预备定位，将基板P转移到位于原始位置上的作业保持座101中的，图13所示的左侧表面上的真空垫103上。当保持未曝光的基板P的作业保持座101到达处于曝光位置的左侧表面上时，左侧掩模保持机构109L前进而使曝光掩模113与基板P相接触，从而曝光掩模113与基板P对准。在曝光掩模113精确地与基板P对准之后，上述曝光掩模113与基板P固定接触。之后，进行曝光循环以便通过掩模113，对基板P的第1表面，即其中的一个表面进行曝光。

在曝光循环完成之后，将左侧掩模保持机构109L从基板P上取下，左侧掩模保持机构109L退回，左侧转移臂115L保持基板P，将其转移给右侧转移臂115R。同时，作业保持座101返回到原始位置，之后再次移动到曝光位置。接着，右侧转移臂115R将基板P转移给右侧真空垫103，右侧掩模保持机构109R前进而与基板P相接触，从而曝光掩模113与基板P对准。在曝光掩模113精确地与基板P对准之后，上述曝光掩模113与基板P固定地接触。之后，进行曝光循环以便通过曝光掩模113，对基板P的第2表面，即另一表面进行曝光。于是，完成对基板P的两个表面的曝光。

在曝光循环完成后，从基板P上取下右侧掩模保持机构109R，右侧掩模保持机构109R退回，作业保持座101返回到原始位置。之后，左侧真空垫103从作业接纳机构105接纳未曝光的基板P，作业供给机构107从右侧真空垫103接纳经双侧曝光的基板，并输送该基板。

图14A为表示已有技术的双侧曝光系统100中的程序操作的时序图。在图14A中，时间在水平轴线以秒计算。一般来说，曝光时间约为3秒或更小。在该时序图中，曝光时间为3秒，循环时间，即进行从开始接纳未曝光的基板P，到开始接纳下一未曝光的基板的程序操作所需的时间为22秒。从图14A可知，当双侧曝光系统100的曝光时间为3秒时，在基板P的第1表面的曝光完成与开始基板P的第2表面的曝光之间，几乎没有等待时间。

敷设于基板P上的一些抗蚀剂要求较长的曝光时间。当需要较长的曝光时间时，即使在完成用于曝光的机械机构的预备操作的情况下，在完成对基板P的第1表面曝光的曝光操作之前，仍不能开始进行用于对基板的第2表面曝光的曝光操作，从而产生时间损失。