[发明专利]照相体系抗划伤－防水保护层

说明书

本发明为照相材料提供防护用的保护层。更具体地说，本发明提供加工溶液可渗透，而且随后熔合时为照相材料提供防水性和防划伤作用的保护层。

卤化银照相材料在其亲水性乳剂中包含光敏卤化银。将卤化银对光或对其它的光化辐射曝光，并将已曝光的卤化银显影，还原成为元素银，从而在照相材料上形成影像。

在彩色照相材料中，用几种不同工艺之一使卤化银显影，结果形成染料影像。最普通的做法是，让卤化银显影反应后的一种副产品，即已氧化的卤化银显影剂，与能形成染料的一种称之为成色剂的化合物反应。然后从照相材料中除去银和未反应的卤化银，留下染料影像。

上述两种情形中任何一种，其影像的形成一般都涉及用水溶液进行液态加工，水溶液必须穿透材料的表面与卤化银和成色剂接触。明胶由于其许多独特性质已专门地用于多种卤化银照相体系作为基本粘合剂，独特性质之一是其水溶胀性。这种迅速的溶胀使加工化学可以进行，影像得以形成。然而，由于该特性，不论是在胶片上还是在纸上，照相影像都需要极小心的处理，不与任何可以损伤影像的水溶液接触。因此，虽然已证明明胶和类似的天然或合成的亲水性聚合物是挑选来用于卤化银照相材料促进卤化银晶体和水相加工溶液接触的粘合剂，但是它们不是处理成像摄影元件的方式所要求的那样坚韧和抗损坏。因此，使已成影像的材料易于印上指纹，可被划伤或弄破，以及与液体接触时发生溶胀或变形。

近几年中，人们对基于明胶的照相体系提供保护层已作了若干尝试，保护层能保护影像不受水或水溶液的损伤。US 2,173,480描述了一种方法，在干燥前将一种胶体悬浮物加到湿的胶片上作为照相冲洗加工的最后一步。一系列的专利描述了一些方法，在照相冲洗加工完成之后，在影像上溶剂涂布一层保护层，这些方法在US2,259,009，2,331,746，2,798,004，3,113,867，3,190,197，3,415,670和3,733,293中作了描述。在US 4,092,173，4,171,979，4,333,998和4,426,431中，描述了将UV可聚合的单体和寡聚体加在已冲洗了的影像上，继之辐射曝光形成交联的保护层。溶剂涂布法和辐射加工处理法的一个弊端是所用化学试剂对涂布操作人员的健康和环境成为问题。US 3,397,980，3,697,277和4,999,266描述了将聚合物片叠压到已冲洗的影像上作为保护层。US 5,447,832描述了使用包含高、低Tg胶乳类混合物的保护层作为防水层，以保持通过照相冲洗加工后的V₂O₅层的抗静电剂性能。这种保护层不加在形成影像的那些层上，因为它对照相过程将有不利的抑制作用。US2,706,686描述了给照相乳剂加一层光面漆，目的是复盖乳剂在曝光前提供防水和抗指纹印的功能；所述光面漆为多孔层，对加工溶液有高度渗水性。在冲洗加工后，光面漆层熔合并凝聚成为连续的不可渗透涂层。通过涂布漆与一种可除去的固体增容剂(碳酸铵)的混合物，并在加工过程中借助升华或溶解作用除去增容剂而制成多孔层。如上所述，若保护层作为有机溶剂中的悬浮体被涂布，对于大规模应用是不合需要的。US 3,443,946提供了一种粗糙的(磨毛了的)防划伤层，但并不是不渗水。US 3,502,501只提供了抗机械损伤的保护，所讨论的层包含主要为亲水性的聚合材料，因此为了保持可冲洗性必是水可渗透的。US 5,179,147同样提供了一种不防水的层。

US 5,856,051描述了一种防护用的保护层，它包括具有特定熔点范围的疏水性聚合物粒子和明胶。在光化学加工显影产生影像以后，使照相材料热熔，于是疏水性聚合物粒子形成一个防水的防护层。然而US 5,856,051专利描述的材料遇到了其防护层易于划伤的问题。本发明公开了独特构造的保护层，它允许为形成影像用的照相冲洗加工溶液扩散通过，并于其后提供防水性并且比US 5,856,051专利所述抗划伤性能有所改善。

目前，人们仍然需要一种可水溶液涂布的防水防护层，它可以结合入照相产品，允许照相加工溶液适当的扩散，并且不要求在曝光和冲洗加工之后进行涂布操作。