[发明专利]抑制易聚合化合物纯化系统的真空区中的聚合的方法有效
| 申请号： | 00109005.4 | 申请日： | 2000-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1276363A | 公开（公告）日： | 2000-12-13 |
| 发明（设计）人： | 松本行弘;西村武 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C07B63/00 | 分类号： | C07B63/00;B01D3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李悦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抑制 聚合 化合物 纯化 系统 真空 中的 方法 | ||
1.一种用于抑制易聚合化合物纯化系统中真空区的聚合作用的方法，其特征在于包括使含有易聚合化合物的气体从纯化区流入气液接触室的步骤，该气液接触室中已供应了含有聚合抑制剂的液体。
2.根据权利要求1的方法，其特征在于其中的真空区包括至少一个或多个气液接触室，向至少一个或多个气液接触室中供应含有聚合物抑制剂的液体。
3.根据权利要求1的方法，其特征在于其中的气液接触室是表面冷凝器，该冷凝器的内表面用液体均匀润湿。
4.根据权利要求1的方法，其特征在于其中的气液接触室是气压冷凝器，液体可用于冷却气压冷凝器。
5.根据权利要求1的方法，其特征在于其中的真空区包括液体喷射泵和/或那氏泵用于降低纯化区的压力。
6.根据权利要求1-5中任一项的方法，其特征在于其中的易聚合化合物是(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯。
7.一种用于纯化易聚合化合物的系统，其特征在于包括：
用于纯化易聚合化合物的塔；
用于真空处理从塔中流出的含有易聚合化合物的气体的真空区；
用于向真空部分供应含有聚合抑制剂的液体，从而使其与气体接触的液体供应设备。
8.根据权利要求7的系统，其特征在于其中的真空部分包括至少一个或多个蒸汽喷射泵和至少一个或多个气液接触室。
9.根据权利要求7的系统，其特征在于其中的气液接触室是气压冷凝器和/或表面冷凝器。
10.根据权利要求7的系统，其特征在于其中的真空部分包括液体喷射泵和/或那氏泵。
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