[发明专利]光刻胶正胶组合物无效
申请号: | 00109344.4 | 申请日: | 2000-05-30 |
公开(公告)号: | CN1276540A | 公开(公告)日: | 2000-12-13 |
发明(设计)人: | 八子由子;竹山尚干 | 申请(专利权)人: | 住友化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 胡交宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 胶正胶 组合 | ||
1.一种光刻胶正胶组合物,它含有一种树脂,该树脂通过酸的作用从碱不溶性或碱微溶性转化成碱可溶性;一种酸发生剂;和一种由下式(I)表示的含氮环化合物:其中X表示CH2或者C(=O),R1,R2,R3和R4中的两个表示低级烷基,其余两个表示氢。
2.按照权利要求1所述的光刻胶正胶组合物,其中,这种通过酸的作用从碱不溶性或碱微溶性被转化成碱可溶性的树脂含有一种聚乙烯基酚树脂,其中,酚羟基基团中的一部分被1-烷氧基烷基基团保护。
3.按照权利要求2所述的光刻胶正胶组合物,其中,这种1-烷氧基烷基基团选自1-乙氧基乙基基团,1-丙氧基乙基基团,1-(2-甲基丙氧基)乙基基团和1-乙氧基丙基基团。
4.按照权利要求1所述的光刻胶正胶组合物,其中,该含氮环化合物是1,3-二甲基-2-咪唑啉酮。
5.按照权利要求1所述的光刻胶正胶组合物,其中,该含氮环化合物是5,5-二甲基海因。
6.按照权利要求1所述的光刻胶正胶组合物,其中,它还含有一种胺化合物作为淬灭剂。
7.按照权利要求6所述的光刻胶正胶组合物,其中,所述的胺是叔胺。
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