[发明专利]由芳杂环直接偶合的共聚型共轭聚合物及制备方法和用途无效
| 申请号： | 00114638.6 | 申请日： | 2000-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1329099A | 公开（公告）日： | 2002-01-02 |
| 发明（设计）人： | 詹才茂;程占刚;肖华;秦金贵 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C08F236/04 | 分类号： | C08F236/04;C08F2/00 |
| 代理公司： | 武汉大学专利事务所 | 代理人： | 康俊明 |
| 地址： | 430072*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 芳杂环 直接 偶合 共聚 共轭 聚合物 制备 方法 用途 | ||
【权利要求书】：
1.一种由芳杂环直接偶合的共聚型共轭聚合物，其通式为：
式中，单体Ar为包括杂环在内的多环或稠环类芳香化合物或其衍生物：单体Ar’为单环、线性多环芳香化合物或其衍生物，m，n为1，2，…自然数。
2.一种制备权利要求1所述的共聚型共轭聚合物的方法，其特征在于：用共聚合反应将不同芳环、稠环、杂环化合物直接氧化偶联为聚合物。
3.根据权利要求1所述的共聚型共轭聚合物，其特征在于所述的单体Ar为咔唑，三苯胺，喹啉，呫吨，吖啶，吩噁嗪或二苯并噁二唑。
4.根据权利要求1所述的共聚型共轭聚合物，其特征在于所述的单体Ar’为苯、噻吩或吡咯。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于氧化偶联是在惰性气氛保护及催化剂作用下，在适当的溶剂中进行，两种单体于-20—40℃下反应2—40小时后，分离除去无机物，在醇类溶剂中沉淀聚合物或通过洗涤除去催化剂和未反应完的单体，洗涤剂为水或醇；所述的催化剂为AlCl3、FeCl3、TiCl4、CuCl2或它们的混合物；所述的溶剂为硝基苯或氯芳、二氯甲烷、四氯化碳。
6.权利要求1所述的共聚型共轭聚合物用于制造发光二极管、电至发光器件、光至发光器件及其它光电转换器件。
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