[发明专利]玻璃上的硅光波导材料及其制作方法无效

专利信息
申请号: 00115581.4 申请日: 2000-04-29
公开(公告)号: CN1102540C 公开(公告)日: 2003-03-05
发明(设计)人: 王跃林;王文辉;李铁;杨艺榕 申请(专利权)人: 中国科学院上海冶金研究所
主分类号: C03C17/02 分类号: C03C17/02;C03C27/06
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 波导 材料 及其 制作方法
【权利要求书】:

1、一种玻璃上的硅光波导材料,具特征在于它是以玻璃为衬底,硅为波导层,玻璃做限制层的光波导材料。

2、根据权利要求1所述的玻璃上的硅光波导材料,其特征是所说的限制层是玻璃——氧化硅层。

3、根据权利要求1所述的玻璃上的硅光波导材料的制作方法,其特征在于具体制作步骤如下:

(1)硅片抛光面和玻璃片抛光面在常规清洗后,烘干;

(2)在静电键合机上将硅片与玻璃片键合,键合温度300摄氏度-400摄氏度,键合电压800伏-1600伏;

(3)键合后对硅片进行减薄处理,达到所需厚度。

4、根据权利要求2所述的玻璃上的硅光波导材料的制作方法,其特征在于它的制作步骤是:

(1)硅片先进行高温氧化处理,形成具有一层氧化硅的硅片;

(2)具有氧化硅层的硅片的氧化硅面和玻璃片抛光面在常规清洗后,烘干;

(3)在静电键合机上将具有氧化硅层的硅片与玻璃片键合,键合温度300摄氏度-400摄氏度,键合电压800伏-1600伏;

(4)对硅片进行减薄,达到所需厚度。

5、根据权利要求3或4所述的玻璃上的硅光波导材料的制作方法,其特征在于所说的硅片进行减薄的方法处理,可以是各向异性腐蚀剂腐蚀,也可以是机械抛光,或化学抛光,或电化学腐蚀或其组合方法。

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