[发明专利]建材及房屋有效
申请号: | 00117964.0 | 申请日: | 2000-06-02 |
公开(公告)号: | CN1276292A | 公开(公告)日: | 2000-12-13 |
发明(设计)人: | 福水浩史;横山茂;树神真 | 申请(专利权)人: | 株式会社伊奈 |
主分类号: | B32B18/00 | 分类号: | B32B18/00;E04C2/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 章鸣玉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 建材 房屋 | ||
本发明涉及具有吸附有害物质功能的建材,特别涉及通过在表面施釉美化外观,同时还可改善耐污性的建材。
以往,由于东亚等湿度较高的地区的房屋都是土木结构的建筑,所以,调湿性和防露性良好,但近年,建筑物呈现高度气密化的趋势,大多使用耐火性和气密性良好的合成树脂覆盖板。这样就存在合成树脂覆盖板产生甲醛等有害物质的问题。
为了解决上述问题,考虑设置空气净化装置,但这种装置需要动力驱动,这样不仅需要设备费用,还需要运转费用,所以并不理想。
因此,希望开发出建材本体具备净化功能、不需要空气净化装置和动力等就可净化空气的建材。日本专利公开公报平9-151544号揭示了这样一个例子,即在建筑物外壁使用混合了沸石的有气泡的混凝土建材,利用此沸石的离子交换作用和吸附作用使空气净化并除臭。
由于在上述有气泡的混凝土建材上不能够施釉,所以,对装饰性有一定限制,这样就不达到美化建筑物外观的目的。此外,还存在容易附着手上的污垢等,且污垢一旦附着就不容易清除的缺陷。
本发明解决了上述问题,其目的是提供具有吸附有害物质的功能、且通过对表面施釉美化外观、并可改善耐污性的建材。另外,本发明还提供了由这种经过改良的建材建起的房屋。
本发明提供了在经过烧结的建材本体表面施釉,建材本体的比表面积在10m2/g以上的建材。
本发明的建材的比表面积较大,具有吸附有害物质的功能。此外,由于在其表面施釉,所以,利用釉彩可进行各种装饰,这样就能够广范围地美化建筑物外观。而且,施釉面不易附着手上的污垢等,即使附着了污垢也容易清除,所以,能够保持表面的清洁。
另外,通过在建材本体表面施釉,虽然会使有害物质的吸附速度减慢,但吸附容量几乎没有改变,这样就对作为可吸附有害物质的建材的功能无太大影响。
施釉后釉彩形成的玻璃层最好占据建材本体表面的90%以下的面积。此外,玻璃层的最大厚度最好在300μm以下。
用本发明的建材对房屋墙壁的下部或地板进行施工,可吸附除去房屋空气中、特别是房屋下部空气中的有害物质。墙壁上部和房顶可以用本发明的建材,也可不用,该建材还可同时用于墙壁下部和地板的施工。这里所谓的“房屋”是指除了卧室之外,还包括厨房、储藏室、卫生间、走廊、台阶等建筑物内的所有空间。
本发明要求建材的贴面面积A(m2)除以房屋容积B(m3)的房屋的实际容积比R(m2/m3)在0.1以上。即,要求R=A/B的值大于0.1,使建材可充分吸附有害物质而进行施工。
图1是作为本发明的建材施工例的房屋的墙壁下部和地板的纵截面图。
本发明的建材是通过烧结而制得的。施釉前的建材本体可以是经过烧结的,也可以是未经过烧结的。
制造本发明的建材时,较好的是按照以下配比在包含水铝英石和轻量玻璃质火山石的鹿沼土和大泽土,以及胶质土、沼泽土、被称为豆浆土(泥沼)的各地火山轻石层和硅藻土、酸性白土、活性白土、沸石、多水的高岭土、海泡石等多孔性原料中,混合加入赋予成型性的造型肥粘土、陶土等粘土,以及为提高烧结性的硅石、陶石、蜡石(滑石)、长石等其他玻璃质组分等,挤压成型或加压成型后,对所得板状或块状成型体进行烧结。
鹿沼土等多孔性原料:100重量份
粘土:10~1000重量份
玻璃质组分:0~500重量份
对以上制得的成型体施釉后进行烧结,或对成型体进行煅烧后施釉、再烧结就可制得本发明的建材。构成该建材的建材本体的比表面积在10m2/g以上,较好是在15m2/g以上,更好是在20m2/g以上。这样的高比表面积是上述鹿沼土等多孔性原料带来的。
本发明中,还可在建材里面形成沟槽(基底,sole)。用这种里面有沟槽的建材对壁面等进行施工时,可确保壁面等和建材里面间的通气,提高了吸附有害物质的功能。
在本发明的建材本体表面施釉后,仍可将建材本体的吸附有害物质的功能维持在较高水平是至关重要的。较好的是施釉后的建材具有80%以上施釉前的建材本体吸附有害物质的功能。
要在施釉后将建材吸附有害物质的功能维持在较高水平,关键是控制施釉面积和施釉厚度。对建材本体表面进行施釉时最好满足以下(i)和(ii)的至少1个条件。施釉可采用喷涂法、幕涂法、印刷法等方法。
(i)由釉彩制得的玻璃层占建材本体表面面积的90%以下(以下称为“施釉面积比例”);
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社伊奈,未经株式会社伊奈许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00117964.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。