[发明专利]基板表面处理装置

权利要求书

1. 一种基板表面处理装置，其特征在于，它具有处理装置、液体回收装置、废液贮留装置、浓度检测·液体补给装置以及处理液供给装置，其中，

处理装置依次将处理液与冲洗液送至配置在处理台上的基板上对基板表面进行处理；

液体回收装置分别回收废处理液与废冲洗液；

废液贮留装置用来贮留废处理液；

浓度检测·液体补给装置是由电导率计和/或吸光光度计检测废处理液中至少一种成分的浓度，依该检测值补给调整处理液来调整处理液；

处理液供给装置用来向前述处理装置供给经调整的处理液。

2. 一种基板表面处理装置，其特征在于，它具有处理装置、液体回收装置、废液贮留·浓度检测·液体补给装置、以及处理液供给装置，

其中，处理装置依次将处理液与冲洗液送至配置在处理台上的基板上对基板表面进行处理；

液体回收装置分别回收废处理液与废冲洗液；

废液贮留·浓度检测·液体补给装置用来贮留废处理液，由电导率计和/或吸光光度计检测废处理液中至少一种成分的浓度，依该检测值补给调整处理液来调整处理液；

处理液供给装置向前述处理装置供给经调整的处理液。

3. 按权利要求1所记述的基板表面处理装置，其特征在于，其废液贮留装置构成具有搅拌与过滤废处理液的搅拌·过滤部。

4. 按权利要求2所记述的基板表面处理装置，其特征在于，其废液贮留·浓度检测·液体补给装置构成具有对经过调整的处理液进行搅拌和过滤的搅拌·过滤部。

5. 按权利要求1～4中任一项所记述的基板表面处理装置，其特征在于，它构成为有废冲洗液分离装置连接于回收装置，该废冲洗液分离装置在回收废冲洗液时，相应于自该废冲洗液回收开始的时间、将回收刚开始的含有异物的废冲洗液与自回收开始经过一定时间之后的第二废冲洗液分离开。

6. 按权利1～5中任一项所记述的基板表面处理装置，其特征在于，用处理装置处理的基板是印刷电路基板、液晶基板、半导体基板以及等离子显示装置基板中的任何一种。

7. 按权利要求1～6中任一项所记述的基板表面处理装置，其特征在于，处理装置的处理台为可自由转动的晶片夹具、辊式输送机以及装载盒中的任何一种。

8. 按权利要求7所记述的基板表面处理装置，其特征在于，处理装置的处理台是载置基板并可自由转动的晶片夹具；液体回收装置由内壁、外壁、与壳体构成，其中，内壁可在遮蔽基板周围的位置与袒露基板周围的位置间升降；外壁一体连设于内壁的外周，并形成可升降的杯体；壳体则包围着由内壁与外壁形成的、可升降的该杯体。

9. 按权利要求7所记述的基板表面处理装置，其特征在于，处理装置的处理台是载置基板并可自由转动的晶片夹具；液体回收装置包括有内杯、壳体、与隔壁，其中，内杯可升降，并具有成圆周状包围着基板设置的内裙部与外裙部；壳体包围着该内杯；隔壁位于固定在壳体底面的内裙部下方与外裙部下方之间；在该内杯位于基板上侧的情况下，从基板流来的废液从内裙部导向隔壁的内侧；而在该内杯位于基板下侧的情况下，从基板流来的废液从外裙部导向隔壁外侧。

10. 按权利要求1～5中任一项所记述的基板表面处理装置，其特征在于，在处理装置中送抵的处理液为显影液。

11. 按权利要求10所记述的基板表面处理装置，其特征在于，由处理装置所送抵的显影液是含有碱性物质与纯水的液体，其中纯水对碱性物质的重量比为0.04～25/100。

12. 按权利要求10或11所记述的基板表面处理装置，其特征在于，以电导率计与/(或)吸光光度计进行检测的成分是显影液中碱性物质与溶解抗蚀剂中的至少一种。

13. 按权利要求10、11或12所记述的基板表面处理装置，其特征在于，显影液中所包含的碱性物质是选自下述物质中的至少一种：氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、磷酸钠、硅酸钠、氢氧化四甲铵与氢氧化三甲基单乙醇铵。

14. 按权利要求1～5中任一项所记述的基板表面处理装置，其特征在于，由处理装置送抵的处理液是透明导电膜用腐蚀液。