[发明专利]环形烯胺作为防光剂的应用

说明书

本发明涉及将在烯属双键上带有吸电子取代基的双环和三环烯胺用作化妆品和药物制品中的防光剂和塑料中的防光添加剂(抗光裂剂)。本发明还涉及这类具有防光作用的新化合物。

化妆品和药物制品中使用的防光剂的任务是防止，或至少是减小，日光对皮肤的有害作用。但是，这些防光剂也起着保护其它组分免遭紫外辐射的分解或破坏的作用。在头发化妆品制剂中，其目的是减小紫外线对角蛋白纤维的损伤。

到达地球表面的日光中含有与可见光区紧邻的UV-B辐射(280-320nm)和UV-A辐射(＞320nm)对人类皮肤的影响显示为晒伤，尤其是在UV-B辐射的情形。因此，工业上提供了大量能吸收UV-B辐射并从而防止晒伤的物质。

皮肤病学的研究现已表明，UV-A辐射也完全能通过例如破坏角蛋白或弹性蛋白造成皮肤损伤和过敏。这减小了皮肤的弹性和贮水量，即，皮肤变得不太柔软并且会形成皱纹。在目光强辐射区皮肤癌发病率明显要高的事实表明，对细胞内遗传信息的损害显然也是由日光、尤其是UV-A辐射造成的。所有这些发现都说明必须研制对UV-A区有效的滤光物质。

对于化妆品和药物制品用的防光剂的需求日益增长，这些防光剂特别应能作为UV-A滤光剂使用，因此其吸收峰应在约320-380nm的范围。为了用最小的数量达到所要求的效果，此类防光剂还应具有高的吸收率。用于化妆品的防光剂还必须满足许多其它要求，例如在化妆油中溶解性好，由它制得的乳状液高度稳定，毒理性质合格，以及固有气味低和固有颜色浅。

防光剂必须满足的另一要求是有足够的光稳定性。但是，迄今得到的吸收UV-A的防光剂，在任何情况下都只是不充分地满足这一要求。

法国专利2，440，933描述了作为UV-A滤光剂的4-(1，1-二甲基乙基)-4′-甲氧基二苯甲酰甲烷。该专利提出将GIVAUDAN以“PARSOL1789”名称销售的这种特殊的UV-A滤光剂与各种UV-B滤光剂组合，以便吸收波长从280到380nm的所有紫外光。

但是，这种UV-A滤光剂在单独使用或者与UV-B滤光剂组合使用时，其光化学稳定性不足以保证在长时间日光浴期间持久地保护皮肤，这意味着如果希望有效地保护皮肤免遭所有的紫外线辐射，则必需以短时间间隔定期反复施用。

为此，EP-A-0 514 491公开了通过加入2-氰基-3，3-二苯基丙烯酸酯使光稳定性不足的UV-A滤光剂稳定的方法，所述的丙烯酸酯本身还起UV-B区滤光剂的作用。

另外，在EP-A-0 251 398中还提出将吸收UV-A辐射和UV-B辐射的生色团通过连接基团结合在一个分子中。这样作的缺点是，首先不再能够将UV-A和UV-B滤光剂在化妆品中自由组合，而且生色团之间化学连接的困难使得仅能共用某些生色团。

美国专利4，950，467描述了2，4-戊二烯酸衍生物在化妆品制剂中作为UV吸收剂的应用。在该专利说明书中作为优先实例列举的单芳基取代化合物也具有光稳定性不高的缺点。

本发明的目的是提出用于化妆品和药物的防光剂，它们主要是以高吸收率在UV-A区(或者任选地在UV-B区)吸收，具有光稳定性，固有颜色低(即，锐谱带结物)，根据取代基可溶于油或水。

我们发现，根据本发明，通过使用式Ⅰ化合物本身或与已知用于化妆品和药物制品的在UV区吸收的化合物一起，作为化妆品和药物制品的光稳定性紫外滤光剂以保护人的皮肤和头发免遭日光辐射，达到了这一目的其中

R¹和R²是相同或不同的吸电子基团，选自氰基，烷基-或芳基羰基，烷氧基-或芳氧基羰基，以及任选取代的氨基羰基，

R³是氢原子，C₁-C₂₀烷基或C₃-C₂₀环烷基，或化学式为-CH₂-CH₂-SO₃-M⁺的基团，其中M⁺是阳离子，X是氧、硫的二价基团，或是以下基团其中R³定义如上，