[发明专利]带锡锑中间层的钛基二氧化铱电极无效
申请号: | 00119691.X | 申请日: | 2000-08-22 |
公开(公告)号: | CN1339618A | 公开(公告)日: | 2002-03-13 |
发明(设计)人: | 黄永昌;向前 | 申请(专利权)人: | 黄永昌;向前 |
主分类号: | C25B11/10 | 分类号: | C25B11/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 徐迅 |
地址: | 200030 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带锡锑 中间层 钛基二 氧化 电极 | ||
1.一种不溶性电极,其特征在于,它包括:
钛基体;
由IrO2和金红石晶体结构的Zr、Ta、Sn、Co的氧化物以及铂族元素组成的复合金属氧化物涂层,该涂层的成分以金属原子百分比计为:
XIrO2·YMOm·ZNOn
式中,X=2%-98%,Y=10%-95%,Z=1%-10%;
m=1-5,n=1-2;
M为选自Zr、Ta、Sn、Co的一种或多种元素,N为选自Pt,Pd的一种或多种元素。
2.如权利要求1所述的电极,其特征在于,它还包括位于钛基体和金属氧化物涂层之间的锡锑中间层,该锡锑中间层成分为SnO2-Sb2O3,其原子百分比为SnO2=60%-90%,Sb2O3=10%-40%。
3.如权利要求2所述的电极,其特征在于,锡锑中间层成分中,原子百分比为SnO2=70%-80%,Sb2O3=20%-30%。
4.如权利要求1所述的电极,其特征在于,X=5%-20%,Y=60%-90%,Z=1%-5%,M=Ta和/或Sn,N=Pd。
5.如权利要求1所述的电极,其特征在于,X=10%-15%,Y=75%-90%,Z=1%-2%,M=Ta和/或Sn,N=Pd。
6.如权利要求1所述的电极,其特征在于,金属氧化物涂层的厚度为5-200微米。
7.如权利要求1所述的电极,其特征在于,金属氧化物涂层的厚度为10-100微米。
8.如权利要求1所述的电极,其特征在于,金属氧化物涂层的厚度为15-25微米。
9.一种制备权利要求1所述电极的方法,其特征在于,它包括步骤:
(1)对钛基体进行喷砂、去除油污处理,然后进行刻蚀处理;
(2)将锡锑中间层涂料均匀涂刷在处理过的钛基体上,经红外灯下烤干,然后在400-650℃烧结5-9分钟,其中该锡锑中间层涂料含有锡锑氯化物、挥发性酸和溶剂;
(3)重复步骤(2)1-10次;
(4)涂刷表层涂料,在红外灯下烤干,然后在450-600℃烧结5-10分钟,其中该表层涂料含有Ir、Pd、Ta、Sn、Co的氯化物,挥发性酸和溶剂;
(5)重复步骤(4)3-30次,其中最后一次烧结15-25分钟。
10.如权利要求1所述的电极的用途,其特征在于,它作为析氧的不溶性阳极用于无机物和有机物电化学合成、电镀、电解、湿法冶金或铝阳极氧化。
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