[发明专利]变迹光纤光栅制造设备

权利要求书

1．一种用于制造变迹光纤光栅的设备，它包括：

紫外光激光器，用以发射紫外激光束；

分束器，用以把从所述紫外激光器发射的所述紫外激光束分成两束光束；

多个反射镜，用以形成光路，以便通过对所述光束的反射，把所述分开的光束同时从两个方向投射在所述光纤上；

相位掩模，用以让所述反射的光束通过，以便以预定的周期在所述光纤内形成光栅；

第一遮断装置，它在所述相位掩模和所述各反射镜之一之间，用来逐渐地遮断所述两束光束中的一束，使之不能从一个方向投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹；和

第二遮断装置，它可以移动并且相对于所述光纤而言位于所述第一遮断装置的对面，用来逐渐地遮断所述另一束光束，使之不能从另一个方向投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹，使得在整个光栅上的平均折射率的变化恒定。

2．权利要求1的设备，其特征在于：所述第一遮断装置是第一屏幕掩模。

3．权利要求2的设备，其特征在于：所述第一屏幕掩模包括：

中央的凹陷部分，用以向所述形成的光栅提供变迹；和

两个突出部分，它的从所述凹陷部分向所述第一屏幕掩模的两端逐渐突出。

4．权利要求1的设备，其特征在于：所述第二遮断装置是第二屏幕掩模。

5．权利要求4的设备，其特征在于：所述第二屏幕掩模包括：

中央的突出部分；和

两个凹陷部分，它们从所述突出部分向所述第二屏幕掩模的两端逐渐下凹。

6．一种用于制造变迹光纤光栅的设备，它包括：

第一紫外激光器，用以从一个方向向所述光纤发射第一紫外激光束；

第二紫外激光器，用以从相反方向向所述光纤发射第二紫外激光束；

相位掩模，用以通过使所述第一紫外激光束增强和干涉，以预定的周期在所述光纤内形成光栅；

第一遮断装置，它位于所述第一紫外激光器和所述相位掩模之间，用来逐渐地遮断两束光束中的一束，使之不能投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹；

第二遮断装置，它相对于所述光纤而言位于所述第一遮断装置的对面，用以逐渐地遮断所述另一束光束，使之不能投射在所述光纤上，于是向所述形成的光栅提供变迹，使得在整个光栅上平均折射率的变化恒定。

7．权利要求6的设备，其特征在于：所述第一遮断装置是第一屏幕掩模。

8．权利要求7的设备，其特征在于所述第一屏幕掩模包括：

中央的凹陷部分，用以向所述形成的光栅提供变迹；和

两个突出部分，它们从所述凹陷部分向所述第一屏幕掩模的两端逐渐突出。

9．权利要求6的设备，其特征在于：所述第二遮断装置是第二屏幕掩模。

10．权利要求9的设备，其特征在于所述第二屏幕掩模包括：

中央的突出部分；和

两个凹陷部分，它们从所述突出部分向所述第二屏幕掩模的两端逐渐下凹。