[发明专利]用于紫外线辐射源的反射器

权利要求书

1．一种用于辐射系统的反射器，其包含漫反射表面，其反射大于50％的240至280nm的辐射。

2．如权利要求1的反射器，其中该反射器反射大于75％的240至280nm的辐射。

3．如权利要求1的反射器，其中该反射器反射大于90％的240至280nm的辐射。

4．如权利要求1的反射器，其中该反射器反射大于90％的250至270nm的辐射。

5．如权利要求1的反射器，其中该反射器为椭圆形。

6．如权利要求1的反射器，其中该反射器对目标区提供辐射能，其中该能量的变异小于8毫焦耳／平方厘米。

7．如权利要求1的反射器，其中该反射器对目标区提供辐射能，其中该能量的变异小于15％。

8．如权利要求1的反射器，其中该反射器对目标区提供辐射能，其中该能量的变异小于10％。

9．如权利要求1的反射器，其中该反射器对目标区提供辐射能，其中辐射包含40至180度的入射角。

10．如权利要求1的反射器，其中该反射器提供小于1．5的对比度系数系数。

11．如权利要求1的反射器，其包含一或多个选自式M_aO_bX_cH_d的反射材料，其中M为单一金属或金属的混合物，O为氧，X为杂原子，及H为卤化物，a为1至20，b为0至20，c为0至20，及d为0至20，条件是至少b、c或d为至少1。

12．如权利要求1的反射器，其包含一或多个纯度大于99．9％的反射材料。

13．如权利要求1的反射器，其包含一或多个选自氧化钙、氧化铪、氧化镧、氧化铽、钛酸钡、氟化镁、氧化镁、氧化铝、氧化钡、钛酸钡、氧化钬、氧化钙、氧化镧、氧化锗、氧化碲、氧化铕、氧化铒、氧化钕、氧化钐、氧化镱、氧化钇、氟化镁、硫酸钡及氧化镝的反射材料。

14．如权利要求1的反射器，其包含一或多个选自稀土族、稀土族卤化物及金属组合氧化物的反射材料。

15．如权利要求1的反射器，其包含一或多个选自氧化镁、氟化镁、氧化铝、硫酸钡、氧化镧、氧化镱及氧化钇的反射材料。

16．如权利要求1的反射器，其包含一或多个选自氧化镁、氟化镁、氧化铝及硫酸钡的反射材料。

17．如权利要求1的反射器，其中该反射器包含反射涂层或附于支撑件的膜。

18．如权利要求17的反射器，其中该反射器包含反射涂层，其通过选自包含涂刷、喷射、浸渍、浇铸、转化涂刷、凝胶涂刷、蚀刻、化学蒸汽淀积、溅射、等离子喷射及激光淀积的方法施加。

19．如权利要求17的反射器，其中该反射涂层或膜为0．1至2500微米。

20．如权利要求1的反射器，其中该反射器包含反射材料的填装的粉末或块。

21．如权利要求1的反射器，其中该反射器包含选自聚乙烯醇、氰基丙烯酸酯、丙烯酸类及硅氧烷的材料。

22．如权利要求1的反射器，其中该反射器包含选自硅酸钠、低温烧结玻璃、碱金属氧化物硅酸盐的材料。