[发明专利]染料掺杂的有机－无机杂化物材料

权利要求书

1．一种包括有机组分和无机组分的有机－无机杂化物材料，其中有机组分包括与光学惰性组分混合的染料组分。

2．权利要求1的材料，其中有机－无机杂化物材料具有由金属卤化物框架组成的无机组分。

3．权利要求1的材料，其中有机－无机杂化物材料是钙钛矿型结构。

4．权利要求1的材料，其中染料材料是在可见光区域中发荧光。

5．权利要求3的材料，其中钙钛矿型结构具有以下通式：(RNH₃)₂(CH₃NH₃)_n－1M_nX_3n+1，其中R是有机基；M是二价金属，X是卤素和n是1或1以上。

6．权利要求3的材料，其中钙钛矿型结构具有以下通式：(NH₃－R－NH₃)(CH₃MH₃)_n-1M_nX_3n+1，其中R是有机基；M是二价金属，X是卤素和n是1或1以上。

7．权利要求5的材料，其中M是IVA族金属。

8．权利要求6的材料，其中M是IVA族金属。

9．权利要求4的材料，其中染料组分选自二苯乙炔，噻吨酮，香豆素，二萘嵌苯，氧二氮茂，多烯，低聚噻吩，低聚苯，苯撑亚乙烯基，噻吩亚乙烯基和它们的混合物的衍生物。

10．权利要求4的材料，其中染料组分是5，5－双(氨基乙基)－2，2′∶5′，2″∶5″，2－四联噻吩(AEQT)。

11．权利要求9的材料，其中染料组分是占全部有机组分的大于0％但小于10％。

12．权利要求9的材料，其中染料组分是占全部有机组分的大于0％但小于5％。

13．权利要求1的材料，其中惰性组分选自AETH，苯乙胺(PEA)，丁基二胺类(BDA)，其它烷基胺类，和二苯乙炔，噻吨酮，香豆素，二萘嵌苯，氧二氮茂，多烯，低聚噻吩，低聚苯，苯撑亚乙烯基，噻吩亚乙烯基的改性(非共轭)染料分子衍生物。

14．一种包括有机组分和无机组分的钙钛矿型结构材料，其中有机组分包括在可见光区内发荧光的染料组分。

15．权利要求14的材料，其中钙钛矿型结构具有以下通式：(RNH₃)₂(CH₃NH₃)_n－1M_nX_3n+1，其中R是有机基；M是二价金属，X是卤素和n是1或1以上。

16．权利要求14的材料，其中钙钛矿型结构具有以下通式：(NH₃－R－NH₃)(CH₃NH₃)_n－1M_nX_3n+1，其中R是有机基；M是二价金属，X是卤素和n是1或1以上。

17．权利要求15的材料，其中M是ⅣA族金属。

18．权利要求16的材料，其中M是ⅣA族金属。

19．权利要求14的材料，其中染料组分选自二苯乙炔，噻吨酮，香豆素，二萘嵌苯，氧二氮茂，多烯，低聚噻吩，低聚苯，苯撑亚乙烯基，噻吩亚乙烯基和它们的混合物的衍生物。

20．权利要求14的材料，其中染料组分是5，5－双(氨基乙基)－2，2′∶5′，2″∶5″，2－四联噻吩(AEQT)。