[发明专利]曝光设备与曝光方法

权利要求书

1．一种将曝光激光束加到光盘原版对所述光盘原版进行曝光的曝光设备，包括：

激光源，用于由SHG发射波长为300nm或更短的曝光激光束；

调制装置，用于调制该曝光激光束；及

数值孔径为1．0或更大的物镜，适用于通过近场效应将调制装置调制的曝光激光束加到光盘原版上。

2．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，调制装置将曝光激光束的峰值光量保持在固定值。

3．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述调制装置是声光调制器。

4．如权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述声光调制器由熔融硅石形成。

5．如权利要求1所述的曝光设备，还包括：

光分离装置，用于将在物镜的输出表面处经历全反射后通过曝光光束的光路返回的全反射光与所述曝光光束分离开来；及

光接收装置，用于接收被光分离装置分离的全反射光，以便输出光量检测结果。

6．如权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，根据光量检测结果对所述物镜作聚焦控制。

7．如权利要求1所述的曝光设备，还包括：

光分离装置，用于将来自光盘原版的返回光束与曝光激光束分离开来；及

成象装置，用于接收被光分离装置分离的返回光束，以便检测返回光束的光量分离。

8．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，从所述激光源到所述物镜至少有一部分光学零件由熔融硅石构成。

9．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，利用固定所述物镜的固定部件吹出的空气的压力，将所述光盘原版与所述物镜之间的距离保持为基本上固定的距离。

10．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，通过对所述光盘原版施加所述曝光激光束，在所述光盘原版上形成相应于深为100nm或更小、宽为200nm或更小的坑的潜象。

11．如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，通过对所述光盘原版施加所述曝光激光束，在所述光盘原版上形成相应于深为100nm或更小、宽为200nm或更小的槽的潜象。

12．一种将曝光激光束加到光盘原版对所述光盘原版进行曝光的曝光方法，包括以下步骤：

由调制装置调制SHG发射的波长为300nm或更短的曝光激光束；以及

用数值孔径为1．0或更大的物镜通过近场效应将曝光激光束施加给所述光盘原版。