[发明专利]喷墨头的制造方法及其结构

权利要求书

1.一种喷墨头的制造方法，包括下列步骤：

在选定基层上以半导体工艺形成包括第一图样及第二图样的图样层，前述图样层至少由加热层及钝化层组成，其中前述第一图样构成前述喷墨头的电路而第二图样则呈不连续形状并形成在预设墨水通道两端的位置，且具有与第一图样基本相等的高度；

在前述图样层上形成一乾膜光阻层，前述乾膜光阻层是在喷墨头中央形成一墨水通道及在该墨水通道两侧形成多个墨水腔；

将具有多个对应前述墨水腔的开孔的喷孔片以热压方式粘合于乾膜光阻层。

2.如权利要求1所述的喷头的制造方法，其特征在于，前述基层包括矽基层及二氧化矽层。

3.如权利要求1所述的喷头的制造方法，其特征在于，前述的喷孔片是由镍金属形成。

4.一种喷墨头，包括：

一基层，它是以矽晶片为材料作为喷墨头的基层；

一图样层，包括第一图样及第二图样，前述图样层至少由加热层及钝化层组成，其中前述第一图样构成前述喷墨头的电路而第二图样则呈不连续形状并形成在预设墨水通道两端的位置，且具有与第一图样基本相等的高度；

一乾膜光阻层，它是在喷墨头中央形成一墨水通道及在该墨水通道两侧形成多个墨水腔；以及

一喷孔片，它具有多个对应前述墨水腔的开孔的喷孔片以热压方式粘合于乾膜光阻层。