[发明专利]半导体处理控制系统及控制方法和记录其处理的记录媒体

权利要求书

1．一种半导体处理过程控制系统，其特征是设置有：

不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；和

求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置，对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个，同时，

所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。

2．一种半导体处理过程控制系统，其特征是设置有：

不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；

求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的多个控制变量计算装置；和

根据预先确定的属于多个处理过程的计算方法管理所述多个控制变量计算装置的控制变量计算方法装置，同时，

所述控制变量计算方法装置被构成为按照需要对应于所述过程控制主体单元可以插拔的结构；

所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述控制变量计算方法装置插拔的结构。

3．如权利要求1或2所述半导体处理过程控制系统，其特征是所述控制变量计算装置设置有：

专门进行所述半导体处理装置的控制变量计算的控制计算单元；和

专门根据来自所述半导体处理装置的处理数据进行计算的实处理总计单元。

4．如权利要求1至3中任一个所述半导体处理过程控制系统，其特征是所述控制变量计算装置设置有：

管理控制变量计算处理流程的计算管理单元；和

由所述计算管理单元使用的计算式的集合组成的计算式单元。

5．如权利要求1所述的半导体处理过程控制系统，其特征是所述过程控制主体单元设置有：

获取处理流程信息的流程信息获取单元；

由所述处理流程信息取得特别指定所述半导体处理装置、处理内容和过程状态的特定信息的过程判断单元；

基于所述特定信息选择与之相适应的控制变量计算装置、并进行起动的控制计算选择执行单元；和

接收由被起动的所述控制变量计算装置的计算得到的控制变量并送往所述半导体处理装置的控制变量发送单元。

6．如权利要求5所述半导体处理过程控制系统，其特征是所述控制变量计算装置具有基于所述特定信息取得处理速度信息并由处理速度计算处理时间的功能。

7．如权利要求6所述半导体处理过程控制系统，其特征是所述控制变量计算装置在取得处理速度的信息时，由所述特定信息中的所述处理内容求取处理条件和处理对象薄膜种类，并根据这些处理条件和处理对象薄膜种类取得处理速度信息。

8．如权利要求1至7中任一个所述半导体处理过程控制系统，其特征是设置有对应信息数据单元，该单元具有对应于处理条件的逻辑步骤处理、和根据此逻辑步骤处理由所述半导体处理装置的控制中所需的所有处理步骤构成的物理步骤处理之间的相关数据。

9．如权利要求1至8中任一个所述半导体处理过程控制系统，其特征是所述控制变量计算装置设置有：

具有由所述半导体处理装置取得处理数据并将其保存于数据临时保存单元中的功能的第一控制变量计算装置；和

具有根据所述数据临时保存单元所保存的所述处理数据判断是否省略处理过程一部分的功能的第二控制变量计算装置。

10．一种半导体处理过程控制系统，其特征是设置有：

接收过程省略判断要求的跳越判断要求接收单元；

具有对应于各过程的过程省略判断逻辑的多个可能替换判断插件；

检索对应于省略判断对象过程的判断插件的跳越可否判断单元；

起动判断插件的判断执行单元；

接收判断插件的过程省略判断结果的判断结果接收单元；和

在过程省略判断结果判断过程可能省略时进行过程省略的跳越执行单元。