[发明专利]激光气相法生产纳米粉的新型反应室光路系统无效
| 申请号： | 00124797.2 | 申请日： | 2000-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN1286153A | 公开（公告）日： | 2001-03-07 |
| 发明（设计）人： | 史清河;沈怀营;陈伟 | 申请（专利权）人： | 黑龙江中超纳米产业股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;C09C1/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100094 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 气相法 生产 纳米 新型 反应 室光路 系统 | ||
【权利要求书】：
1、激光气相法生产纳米粉的新型反应室光路系统由一透射镜及一组球面反射镜构成，其特征在于：
1)在靠近反应室反应区中心点与反应室底面平行，设置带有透光孔径的栏光器，使入射激光通过该孔径后在球面镜上进行多次反射，而超出孔径的激光则被栏光器阻拦从而被吸收；
2)所述拦光器带有一水冷装置以便即时带走被吸收的激光能量。
2、如权利要求1所述的激光气相法生产纳米粉的新型反应室光路系统，其特征在于所述栏光器孔径形状为扁矩形。
3、如权利要求1所述的激光气相法生产纳米粉的新型光路系统，其特征在于所述拦光器材料为金属铜。
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