[发明专利]热光电池及其制备方法无效
申请号: | 00129511.X | 申请日: | 2000-09-29 |
公开(公告)号: | CN1345094A | 公开(公告)日: | 2002-04-17 |
发明(设计)人: | 陈钟谋 | 申请(专利权)人: | 杨希文;张盛武;陈钟谋 |
主分类号: | H01L31/06 | 分类号: | H01L31/06;H01L31/0256 |
代理公司: | 北京北新智诚专利代理有限公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 210024 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电池 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及一种电池,尤其是一种可将光能转换成电能的光电池及其制备方法。
已有的光电池即太阳能电池通常由半导体衬底和扩散层形成的PN结以及该PN结两端引出的电极构成。半导体有吸收光并使光子转换成光生载流子(电子、空穴对)的特点,由于PN结处存在着自建电场,光照在半导体上产生的光生载流子就会扩散到PN结处的自建电场,而光生载流子就会被这个自建电场加速以形成光生电流。PN结二极管就是依靠着其自建电场使光转换成电流,因此PN结器件可以用于制造光探测器和太阳能电池。
目前已有的PN结光探测器对光,特别是长波长(红外波段)的光吸收率不高,因此,对光特别是红外光的光电转换效率比较低。由PN结制造的大阳能电池不能吸收红外线,只能吸收可见光,而且还无法利用光电转换过程中产生的热能。利用PN结做成的电池,其光电转换效率不高,最多达到17%,其中已吸收的约有80%的可见光能量成为无用的热能,还有占太阳光谱中近30%的红外线,因光子能量小于硅(或其它材料)禁带宽度不能利用。
为了提高光电转换率,名称为《高光电转换效率的P-N结硅光电二极管》的发明专利公开了一种“在P-N结附近的上方或下方存在一具有高热稳定性的缺陷层”的光电二极管。这种光电池因有缺陷层能吸收更多的光而产生更多的光生载流子,从而使光电转换率在一定程度上有所提高,但仍未能解决红外线及耗散热能的吸收问题。
究其原因是已有的光电池是利用了少数载流子的原理,利用两种不同杂质,以硅为基底,一个渗硼,一个渗磷,两材料结合形成电势,在P区积累负电荷,N区积累正电荷,形成空间电荷区,这就是已有的太阳能电池的基本原理。
本发明目的是,针对现有光电池存在的问题,提供一种具有吸收红外线及利用耗散热量的热光电池及其制备方法,从而使热光电池的光电转换率得以明显提高。
为达到上述目的,本发明采用:
1.用N++P+N-三层结构作光电池;
2.以及由N++P+N-三层结构与P+N-混杂结构构成的光电池;
3.用P++N+P-三层结构作光电池;
4.以及由P++N+P-三层结构与N+P-混杂结构构成的光电池。
本发明还将几乎不耗电的外来电源利用来增强自建场,提高热生和光生载流子的捕集率。
本发明还形成用高渗杂办法来吸收近红外线的硅热光电池。
上述三层结构中N++层的掺杂浓度范围1019-1021cm-3,P+层浓度范围1017-1019;N++扩散淹没局部P+区;造成P+区在三层结构中的厚度为1nm至数十个纳米(nm);N-层的掺杂浓度范围1013-5×1014cm-3。上述三层结构中P++层的掺杂浓度范围1019-1021cm-3;N+层浓度范围1017-1019;P++扩散淹没局部N+区,造成N+区在三层结构中的厚度为1nm至数十个纳米;P-层的掺杂浓度范围1013-5×1014cm-3。
发明结构参数设计:
(1)硅外延材料设计:
采用掺杂浓度为1019cm-3,<100>晶向,面积为50×50mm2,厚度为400μm N型单晶硅衬底,并在其上汽相外延生长一层浓度为1013-1015m-3(约50欧姆.厘米或50Ω.cm)厚度为10μm-15μm的N外延层。
(2)红外吸收设计:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的