[发明专利]显示器用玻璃基板的制法及由此制得的显示器用玻璃基板

权利要求书

1．一种制备显示器用玻璃基板的方法，其包括如下步骤：

采用浮法制备具有上表面和下表面的玻璃基板；

对于上述玻璃基板表面形成的还原性异质层，通过用一种主要包含氢氟酸的蚀刻剂而至少蚀刻掉上述玻璃基板的上表面的还原性异质层。

2．根据权利要求1的方法，其中所述还原性异质层蚀刻掉的厚度为5到14μm。

3．根据权利要求2的方法，其中所述还原性异质层蚀刻掉的厚度为6到11μm。

4．根据权利要求1至3中之一的方法，其中所述蚀刻包括将玻璃基板浸入蚀刻剂中。

5．根据权利要求4的方法，其中所述蚀刻剂的温度在10到30℃之间。

6．根据权利要求1至3中任一权利要求的方法，其中所述蚀刻包括将所述蚀刻剂至少喷洒在所述玻璃基板的上表面。

7．根据权利要求1至3中任一权利要求的方法，此外还包括用粘膜涂覆于所述玻璃基板的下表面从而只蚀刻掉所述玻璃基板上表面的还原性异质层的步骤。

8．根据权利要求1至3中任一权利要求的方法，其中所述蚀刻剂包括氢氟酸浓度为1％到25％的氢氟酸溶液。

9．根据权利要求1至3中任一权利要求的方法，其中所述玻璃基板具有的组成为，按重量百分比计：SiO₂为50％到75％，RO为10％到27％，Al₂O₃为1％到15％，Na₂O为2％到15％。

10．一种用于显示器的玻璃基板，其是通过如下方法制备：采用浮法制备包含一个上表面的玻璃基板，对于该玻璃基板表面形成的还原性异质层，通过用一种主要包含氢氟酸的蚀刻剂而至少蚀刻掉该玻璃基板的上表面的还原性异质层。

11．根据权利要求10的玻璃基板，其中只有所述玻璃基板的上表面形成的还原性异质层被蚀刻掉。

12．根据权利要求10或11的用于显示器的玻璃基板，其中所述玻璃基板具有的组成为，按重量百分比计：SiO₂为50％到75％，RO为10％到27％，Al₂O₃为1％到15％，Na₂O为2％到15％。

13．根据权利要求10的用于显示器的玻璃基板作为等离子显示板的用途。