[发明专利]等离子体处理装置和使用该装置的等离子体产生方法无效

专利信息
申请号: 00130036.9 申请日: 2000-10-25
公开(公告)号: CN1294480A 公开(公告)日: 2001-05-09
发明(设计)人: 田口典幸;泽田康志;山崎圭一;中园佳幸;猪冈结希子;喜多山和也 申请(专利权)人: 松下电工株式会社
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 隆天国际专利商标代理有限公司 代理人: 潘培坤,陈红
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 使用 产生 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子体处理装置,用于以大气压力附近的压力下产生的等离子体来处理对象,所述装置包括:

具有孔的产生等离子体的室,所述等离子体从该孔吹出;

气体供应,用于将产生等离子体的气体送入所述室;

一对电极;

电源,用于在所述电极之间施加交流电场以维持所述室内的所述等离子体;

用于提供脉冲电压的脉冲发生器;以及

点火电极,用于对所述室内所送入的所述气体施加所述脉冲电压以产生等离子体。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述一对电极接触所述室的外表面。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述点火电极置于所述孔的附近。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,包括电极移动装置,用于在第一位置与第二位置之间移动所述点火电极,在第一位置处所述点火电极置于所述孔的附近以便对所述气体供给所述脉冲电压,在第二位置处所述点火电极离开所述孔。

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述点火电极置于所述室的外侧且邻近由所述一对电极在所述室中提供的放电区域。

6.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述点火电极接触所述室的外表面。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述孔的内侧尺寸在1mm至20mm的范围内。

8.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述脉冲发生器所提供的所述脉冲电压的大小为加在所述一对电极之间的电压值的三倍或以上。

9.一种使用权利要求1所述等离子体处理装置的等离子体产生方法,包括步骤:利用所述点火电极向大气压力附近的压力下的用于产生等离子体的气体供给脉冲电压,以便在所述室中产生等离子体。

10.如权利要求9所述的等离子体产生方法,其特征在于,所述脉冲发生器所提供的所述脉冲电压的大小为加在所述一对电极之间的电压值的三倍或以上。

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